等离子体处理设备及其用于等离子体处理设备的接地环组件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910595369.4

申请日：

2019-07-03

公开(公告)号：

CN112185786A

公开(公告)日：

2021-01-05

发明(设计)人：

王伟娜黄允文吴磊

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

H01L2167 H01R464

代理机构：

上海元好知识产权代理有限公司 31323

代理人：

包姝晴;张静洁

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-01-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20190703
2021-01-05	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理设备及用于等离子体处理设备的接地环组件 [P].

王伟娜 ;

黄允文 ;

吴磊 .

中国专利 :CN112185786B ,2024-04-05

[2]

等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统 [P].

范德宏 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112117176A ,2020-12-22

[3]

等离子体处理设备及用于等离子体处理设备的下电极组件 [P].

范光伟 ;

吴狄 ;

徐朝阳 .

中国专利 :CN112928007A ,2021-06-08

[4]

等离子体屏蔽组件和等离子体处理设备 [P].

林垠赞 ;

柳海永 ;

李殷守 ;

朴瑄昱 ;

张容文 ;

朴炫九 ;

李在龙 .

韩国专利 :CN222705440U ,2025-04-01

[5]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[6]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[7]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

[8]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

山崎圭一 ;

猪冈结希子 ;

泽田康志 ;

田口典幸 ;

中园佳幸 ;

仲野章生 .

中国专利 :CN1165208C ,2002-02-06

[9]

等离子体处理设备以及等离子体处理方法 [P].

黄振华 .

中国专利 :CN113035677B ,2021-06-25

[10]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

有田洁 .

中国专利 :CN1669109A ,2005-09-14

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