反射型光掩模坯以及反射型光掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980073304.1

申请日：

2019-11-01

公开(公告)号：

CN112997116B

公开(公告)日：

2025-02-21

发明(设计)人：

古沟透福上典仁渡边原太成田英辅

申请人：

科盛德光掩模株式会社

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F1/24

IPC分类号：

G03F1/54

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

常海涛;金小芳

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-21	授权	授权
2025-02-07	著录事项变更	著录事项变更IPC(主分类):G03F 1/24变更事项:申请人变更前:凸版光掩模有限公司变更后:科盛德光掩模株式会社变更事项:国家或地区变更前:日本变更后:日本变更事项:地址变更前:日本东京变更后:日本东京

共 50 条

[1]

反射型光掩模坯以及反射型光掩模 [P].

古沟透 ;

福上典仁 ;

渡边原太 ;

成田英辅 .

中国专利 :CN112997116A ,2021-06-18

[2]

反射型光掩模坯、以及反射型光掩模的制造方法 [P].

樱井敬佑 .

日本专利 :CN120831860A ,2025-10-24

[3]

反射型光掩模以及反射型光掩模的制造方法 [P].

宫胁大辅 ;

合田步美 ;

中野秀亮 ;

市川显二郎 ;

山形悠斗 .

日本专利 :CN117480448A ,2024-01-30

[4]

光掩模坯以及光掩模的制备方法 [P].

高坂卓郎 ;

稻月判臣 ;

金子英雄 .

中国专利 :CN107153325A ,2017-09-12

[5]

光掩模坯 [P].

吉川博树 ;

稻月判臣 ;

冈崎智 ;

原口崇 ;

佐贺匡 ;

福岛佑一 .

中国专利 :CN101140416B ,2008-03-12

[6]

相移型光掩模坯料和相移型光掩模 [P].

高坂卓郎 ;

小泽良兼 .

日本专利 :CN110955109B ,2025-04-22

[7]

相移型光掩模坯料和相移型光掩模 [P].

高坂卓郎 ;

小泽良兼 .

中国专利 :CN110955109A ,2020-04-03

[8]

光掩模坯料、光掩模的制造方法以及光掩模 [P].

松桥直树 .

中国专利 :CN112925163A ,2021-06-08

[9]

光掩模坯料、光掩模的制造方法以及光掩模 [P].

松桥直树 .

日本专利 :CN112925163B ,2024-06-21

[10]

光掩模坯基板收纳容器、光掩模坯基板的保管方法以及光掩模坯基板的输送方法 [P].

伊藤祥刚 ;

小板桥龙二 .

日本专利 :CN120559944A ,2025-08-29

← 1 2 3 4 5 →