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光掩模坯料、光掩模的制造方法以及光掩模
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011339150.7
申请日：
2020-11-25
公开(公告)号：
CN112925163B
公开(公告)日：
2024-06-21
发明(设计)人：
松桥直树
申请人：
信越化学工业株式会社
申请人地址：
日本国东京都千代田区大手町二丁目6番1号
IPC主分类号：
G03F1/22
IPC分类号：
G03F1/50
G03F1/54
G03F1/62
G03F1/68
G03F1/80
H01L21/027
H01L21/033
代理机构：
上海德昭知识产权代理有限公司 31204
代理人：
郁旦蓉
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-06-21 | 授权 | 授权 |