工艺腔室及半导体处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311062548.4

申请日：

2023-08-22

公开(公告)号：

CN119506834A

公开(公告)日：

2025-02-25

发明(设计)人：

靳阳史全宇

申请人：

北京北方华创微电子装备有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/46 C23C16/52 H01L21/67

代理机构：

深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651

代理人：

汤金燕

法律状态：

公开

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-25	公开	公开
2025-03-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20230822

共 50 条

[1]

工艺腔室及半导体处理设备 [P].

侯珏 ;

兰玥 ;

佘清 ;

李晓强 ;

王厚工 ;

丁培军 .

中国专利 :CN111986976B ,2020-11-24

[2]

工艺腔室和半导体处理设备 [P].

高印博 .

中国专利 :CN209029343U ,2019-06-25

[3]

工艺腔室和半导体处理设备 [P].

高印博 .

中国专利 :CN111354655A ,2020-06-30

[4]

半导体工艺腔室及半导体工艺设备 [P].

杨松 ;

袁若琳 ;

张庆山 .

中国专利 :CN120648991A ,2025-09-16

[5]

工艺腔室和半导体处理设备 [P].

张璐 .

中国专利 :CN110660635B ,2020-01-07

[6]

工艺腔室和半导体处理设备 [P].

刘耀琴 ;

杨帅 ;

刘建涛 ;

黄扬君 .

中国专利 :CN110538533A ,2019-12-06

[7]

工艺腔室和半导体处理设备 [P].

董辉 ;

翟晓烨 .

中国专利 :CN208848868U ,2019-05-10

[8]

工艺腔室和半导体处理设备 [P].

邓曾红 .

中国专利 :CN208985964U ,2019-06-14

[9]

工艺腔室和半导体处理设备 [P].

郭士选 ;

王松涛 .

中国专利 :CN110706994B ,2020-01-17

[10]

工艺腔室和半导体处理设备 [P].

么曼实 ;

南建辉 ;

管长乐 .

中国专利 :CN111211067A ,2020-05-29

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