聚焦离子束系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411893724.3

申请日：

2024-12-20

公开(公告)号：

CN119549924A

公开(公告)日：

2025-03-04

发明(设计)人：

高峰高强

申请人：

上海季丰电子股份有限公司

申请人地址：

201199 上海市闵行区友东路258-288号2幢101室

IPC主分类号：

B23K31/10

IPC分类号：

B23K37/00

代理机构：

北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463

代理人：

曹瑞敏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-21	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B23K 31/10申请日:20241220
2025-03-04	公开	公开

共 50 条

[1]

聚焦离子束设备及聚焦离子束检测方法 [P].

赖李龙 .

中国专利 :CN101246132B ,2008-08-20

[2]

用于聚焦离子束系统的光阑结构 [P].

曾卓 ;

郭伟 .

中国专利 :CN223513904U ,2025-11-04

[3]

聚焦离子束系统及改进聚焦粒子束加工的方法 [P].

T.米勒 ;

S.克罗格 ;

S.张 ;

M.马佐斯 ;

A.格劳佩拉 .

中国专利 :CN103456588B ,2013-12-18

[4]

用于聚焦离子束设备的散热装置及其聚焦离子束设备 [P].

刘宝露 .

中国专利 :CN223206221U ,2025-08-08

[5]

用于大面积基板的聚焦离子束系统 [P].

伯纳德·G·穆勒 .

中国专利 :CN112912988A ,2021-06-04

[6]

用于大面积基板的聚焦离子束系统 [P].

伯纳德·G·穆勒 .

美国专利 :CN112912988B ,2024-12-17

[7]

聚焦离子束杂质鉴定 [P].

J.格雷厄姆 ;

L.克拉尔 .

中国专利 :CN111579890B ,2020-08-25

[8]

聚焦离子束分析方法 [P].

段淑卿 ;

曹蓉 ;

齐瑞娟 ;

于会生 .

中国专利 :CN105097580A ,2015-11-25

[9]

基于聚焦离子束刻蚀光波导的方法 [P].

杨琳娟 ;

姜潇潇 ;

谷琼婵 ;

宋爱娟 ;

梁丽勤 ;

吕江涛 ;

王凤文 ;

司光远 .

中国专利 :CN103064147B ,2013-04-24

[10]

用于捕获离子束粒子和聚焦离子束的方法和系统 [P].

彼得·克雷曼 ;

维特·班威尼斯特 ;

亚历山大·普瑞尔 ;

布莱恩·弗瑞尔 ;

麦可·葛瑞夫 .

中国专利 :CN101432841B ,2009-05-13

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