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晶圆电镀设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010461603.7
申请日
:
2020-05-27
公开(公告)号
:
CN111560637B
公开(公告)日
:
2025-02-25
发明(设计)人
:
王振荣
刘红兵
申请人
:
上海新阳半导体材料股份有限公司
申请人地址
:
201616 上海市松江区思贤路3600号
IPC主分类号
:
C25D7/12
IPC分类号
:
C25D21/10
C25D17/06
C25D17/02
C25D17/00
代理机构
:
北京金诚同达律师事务所 11651
代理人
:
李强
法律状态
:
授权
国省代码
:
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-25
授权
授权
共 50 条
[1]
晶圆电镀设备
[P].
王振荣
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王振荣
;
刘红兵
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刘红兵
.
中国专利
:CN111560637A
,2020-08-21
[2]
晶圆电镀设备
[P].
王振荣
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王振荣
;
刘红兵
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刘红兵
.
中国专利
:CN213086155U
,2021-04-30
[3]
晶圆可冲洗的晶圆电镀设备
[P].
王振荣
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0
王振荣
;
刘红兵
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刘红兵
.
中国专利
:CN111593391A
,2020-08-28
[4]
晶圆可冲洗的晶圆电镀设备
[P].
王振荣
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王振荣
;
刘红兵
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刘红兵
.
中国专利
:CN214142568U
,2021-09-07
[5]
晶圆电镀设备
[P].
项家乐
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
项家乐
;
金一诺
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
金一诺
;
石轶
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
石轶
;
王坚
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
王坚
;
王晖
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
王晖
.
中国专利
:CN117661087A
,2024-03-08
[6]
用于晶圆电镀设备的盖子及晶圆电镀设备
[P].
王振荣
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王振荣
;
刘红兵
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刘红兵
.
中国专利
:CN111621826A
,2020-09-04
[7]
用于晶圆电镀设备的盖子及晶圆电镀设备
[P].
王振荣
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王振荣
;
刘红兵
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刘红兵
.
中国专利
:CN213086144U
,2021-04-30
[8]
用于晶圆电镀设备的屏蔽装置及晶圆电镀设备
[P].
王振荣
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王振荣
;
刘红兵
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刘红兵
.
中国专利
:CN213086143U
,2021-04-30
[9]
晶圆电镀设备用搅拌装置
[P].
黄雷
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黄雷
.
中国专利
:CN214529309U
,2021-10-29
[10]
晶圆电镀设备
[P].
刘博佳
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刘博佳
;
王海宽
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王海宽
;
郭松辉
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郭松辉
;
林宗贤
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林宗贤
.
中国专利
:CN210215592U
,2020-03-31
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