学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审

反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20240228457
申请日：
2024-12-25
公开(公告)号：
JP2025031911A
公开(公告)日：
2025-03-07
发明(设计)人：
IKEBE YOHEI
申请人：
HOYA CORP
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F1/24
IPC分类号：
G03F1/54 G03F1/72 G03F1/84 G03F7/20
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体デバイスの製造方法[ja] [P]. 
ONO TAKUO ;
IKEBE YOHEI .
日本专利 :JP2024119143A ,2024-09-03
[2]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
AKAGI DAIJIRO ;
OKATO TAKESHI ;
SASAKI KENICHI ;
ISHIKAWA ICHIRO ;
SUZUKI NORIYUKI .
日本专利 :JP2024135147A ,2024-10-04
[3]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
AKAGI DAIJIRO ;
OKATO TAKESHI ;
SASAKI KENICHI ;
ISHIKAWA ICHIRO ;
SUZUKI NORIYUKI .
日本专利 :JP2024135499A ,2024-10-04
[4]
反射型マスクブランク、反射型マスクおよび反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025146082A ,2025-10-03
[5]
反射型マスクブランクおよび反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6929983B1 ,2021-09-01
[6]
反射型マスクの洗浄装置および反射型マスクの洗浄方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015137077A1 ,2017-04-06
[7]
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022136193A ,2022-09-15
[8]
フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法ならびにクロム系材料膜[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012070209A1 ,2014-05-19
[9]
フォトマスク及びその製造方法[ja] [P]. 
MORIYAMA KUMIKO ;
YAMADA SHINGO .
日本专利 :JP2022017386A ,2022-01-25
[10]
フォトマスク及びその製造方法[ja] [P]. 
OJIMA SHOJIRO ;
YAMADA SHINGO ;
MORIYAMA KUMIKO .
日本专利 :JP2022009498A ,2022-01-14
12345