学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
氢等离子体分解
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380051152.1
申请日
:
2023-05-19
公开(公告)号
:
CN119604645A
公开(公告)日
:
2025-03-11
发明(设计)人
:
戴维·爱德华·迪根
唐怡然
尼尔·爱德华·塞思·查曼
彼得·迈克尔·基利-洛佩斯
申请人
:
英商泰创尼克斯科技有限公司
申请人地址
:
英国威尔特郡
IPC主分类号
:
C25B1/04
IPC分类号
:
B01J19/08
C01B3/04
C25B9/30
C25B9/60
C25B9/67
C25B15/021
C25B15/027
C25B15/04
C25B15/08
H05H1/34
代理机构
:
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
:
陈知宇
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-03-11
公开
公开
2025-03-28
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C25B 1/04申请日:20230519
共 50 条
[1]
等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置
[P].
森口尚树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
森口尚树
.
中国专利
:CN105103274A
,2015-11-25
[2]
等离子体处理设备
[P].
松本直树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松本直树
;
吉川润
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
吉川润
;
佐佐木胜
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
佐佐木胜
;
加藤和行
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
加藤和行
;
四方政史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
四方政史
;
高桥慎伍
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高桥慎伍
.
中国专利
:CN101505574A
,2009-08-12
[3]
等离子体监测方法、等离子体监测装置和等离子体处理装置
[P].
松本直树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松本直树
;
山泽阳平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山泽阳平
;
輿水地盐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
輿水地盐
;
松土龙夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松土龙夫
;
濑川澄江
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
濑川澄江
.
中国专利
:CN100520382C
,2004-10-27
[4]
等离子体处理装置、狭缝天线和等离子体处理方法
[P].
堀口贵弘
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
堀口贵弘
.
中国专利
:CN1849034A
,2006-10-18
[5]
通用氢等离子体汽化器
[P].
伯特·索科洛夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
伯特·索科洛夫
.
中国专利
:CN102128109A
,2011-07-20
[6]
氢等离子体熔融还原炼铁系统
[P].
朱兴营
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
朱兴营
;
陈峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈峰
;
周法
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
周法
;
陈连忠
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈连忠
;
王庆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王庆
.
中国专利
:CN206014996U
,2017-03-15
[7]
用于形成逻辑器件的氢等离子体处理
[P].
杨宗翰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
杨宗翰
;
刘震
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
刘震
;
高勇谦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
高勇谦
;
迈克尔·S·杰克逊
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
迈克尔·S·杰克逊
;
王荣钧
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
王荣钧
.
美国专利
:CN118610087A
,2024-09-06
[8]
利用氢等离子体处理的钨间隙填充
[P].
杨宗翰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
杨宗翰
;
岳诗雨
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
岳诗雨
;
汪荣军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
汪荣军
.
美国专利
:CN119790495A
,2025-04-08
[9]
远程等离子体源和具有所述远程等离子体源的等离子体处理腔室
[P].
杨扬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
杨扬
;
K·拉马斯瓦米
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
K·拉马斯瓦米
;
F·斯李维亚
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
F·斯李维亚
;
I·尤瑟夫
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
I·尤瑟夫
.
美国专利
:CN121153099A
,2025-12-16
[10]
等离子体处理装置、等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
舆水地盐
.
中国专利
:CN101908460A
,2010-12-08
←
1
2
3
4
5
→