放射性同位体の分析方法及び分析装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20210173289

申请日：

2021-10-22

公开(公告)号：

JP7649041B2

公开(公告)日：

2025-03-19

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IPC主分类号：

G01T1/167

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共 50 条

[1]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7407097B2 ,2023-12-28

[2]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7426327B2 ,2024-02-01

[3]

放射性同位体製造装置及び放射性同位体製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025169525A ,2025-11-14

[4]

放射性同位体製造方法及び放射性同位体製造装置[ja] [P].

MIYADERA HARUO ;

OMIKA SHUNICHIRO ;

FUJIMAKI TAKURO ;

UENO SOICHI ;

KANEMURA SHOHEI .

日本专利 :JP2024156358A ,2024-11-06

[5]

放射性同位体精製装置、及び放射性同位体精製方法[ja] [P].

SOME KANAKO ;

UENO SATOSHI ;

ODA TAKASHI ;

HIGUCHI HIRONORI ;

GUERRA GOMEZ FRANCISCO ;

NAGATSU KOTARO ;

MINEGISHI KATSUYUKI ;

KUGE YUJI ;

TAKAHASHI KAZUHIRO ;

NISHIJIMA KENICHI .

日本专利 :JP2024025023A ,2024-02-26

[6]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019088113A1 ,2020-11-12

[7]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7185930B2 ,2022-12-08

[8]

放射性同位体の生成[ja] [P].

日本专利 :JP2025540081A ,2025-12-11

[9]

放射性同位体の製造方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP7219513B2 ,2023-02-08

[10]

放射性同位体製造方法および放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7258736B2 ,2023-04-17

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