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用于半导体处理系统的进气控制方法和半导体处理系统

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411949060.8
申请日：
2024-12-27
公开(公告)号：
CN119710641A
公开(公告)日：
2025-03-28
发明(设计)人：
王传道 韩萍 张文文
申请人：
研微（江苏）半导体科技有限公司
申请人地址：
214100 江苏省无锡市无锡经济开发区太湖街道震泽路688号太湖湾信息技术产业园1号楼2201-01
IPC主分类号：
C23C16/455
IPC分类号：
C23C16/52 C23C16/04 H01L21/67
代理机构：
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人：
杜娟
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-15 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20241227
2025-03-28 公开 公开
共 50 条
[1]
半导体处理系统和半导体处理方法 [P]. 
曹志明 ;
赖佶甫 .
中国专利 :CN119965081A ,2025-05-09
[2]
半导体处理系统及半导体处理系统的污染控制方法 [P]. 
陈柏辰 ;
吴圣威 ;
蔡永豊 .
中国专利 :CN110660703B ,2020-01-07
[3]
半导体处理装置和半导体处理系统 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN116844993B ,2025-07-15
[4]
半导体处理装置和半导体处理系统 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN120497194A ,2025-08-15
[5]
半导体处理装置、半导体处理系统和半导体边缘处理方法 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN114188265B ,2025-06-17
[6]
半导体处理装置、半导体处理系统和半导体边缘处理方法 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN114188265A ,2022-03-15
[7]
半导体废气处理系统及半导体废气处理系统的控制方法 [P]. 
杨春涛 .
中国专利 :CN118623326A ,2024-09-10
[8]
半导体处理系统及其半导体处理方法 [P]. 
温子瑛 .
中国专利 :CN119920719A ,2025-05-02
[9]
半导体处理系统 [P]. 
许嘉毓 ;
野沢俊久 ;
关帅 ;
邱大益 .
中国专利 :CN117512561A ,2024-02-06
[10]
半导体处理系统 [P]. 
三重野文健 .
中国专利 :CN104701214B ,2015-06-10
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