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晶圆清洗系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311259925.3
申请日
:
2023-09-27
公开(公告)号
:
CN119725139A
公开(公告)日
:
2025-03-28
发明(设计)人
:
吴宗恩
罗翔隆
申请人
:
弘塑科技股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新竹市香山区中华路六段89号
IPC主分类号
:
H01L21/67
IPC分类号
:
H01L21/677
H01L21/687
B08B3/02
B08B3/08
代理机构
:
上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218
代理人
:
翟羽
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-15
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20230927
2025-03-28
公开
公开
共 50 条
[1]
晶圆清洗系统
[P].
吴宗恩
论文数:
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0
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机构:
弘塑科技股份有限公司
弘塑科技股份有限公司
吴宗恩
;
罗翔隆
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机构:
弘塑科技股份有限公司
弘塑科技股份有限公司
罗翔隆
.
中国专利
:CN221149948U
,2024-06-14
[2]
晶圆清洗花篮及晶圆清洗系统
[P].
程谦
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程谦
;
王虎
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王虎
;
陈贤辉
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陈贤辉
.
中国专利
:CN208781813U
,2019-04-23
[3]
晶圆清洗装置及晶圆清洗系统
[P].
赵宝君
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赵宝君
;
祝福生
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祝福生
;
张伟锋
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张伟锋
;
袁恋
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袁恋
;
王文丽
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王文丽
;
夏楠君
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夏楠君
.
中国专利
:CN110047788B
,2019-07-23
[4]
晶圆清洗系统及晶圆清洗方法
[P].
史蒂文·贺·汪
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史蒂文·贺·汪
.
中国专利
:CN112053972A
,2020-12-08
[5]
晶圆清洗设备和晶圆清洗系统
[P].
张锋
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张锋
.
中国专利
:CN114203572A
,2022-03-18
[6]
晶圆清洗系统
[P].
吕佳韦
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机构:
成都紫光半导体科技有限公司
成都紫光半导体科技有限公司
吕佳韦
.
中国专利
:CN221573870U
,2024-08-20
[7]
晶圆清洗系统
[P].
张子阳
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张子阳
;
李杰
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李杰
;
丁高生
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丁高生
;
葛林新
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葛林新
;
李守印
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李守印
.
中国专利
:CN114260217A
,2022-04-01
[8]
晶圆清洗系统
[P].
钱子隆
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钱子隆
;
许定
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许定
;
张再辉
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张再辉
;
王刚
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王刚
.
中国专利
:CN216528758U
,2022-05-13
[9]
晶圆清洗系统、晶圆清洗系统的控制方法及装置
[P].
赵一平
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机构:
沈阳和研科技股份有限公司
沈阳和研科技股份有限公司
赵一平
;
余胡平
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机构:
沈阳和研科技股份有限公司
沈阳和研科技股份有限公司
余胡平
;
魏书琦
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机构:
沈阳和研科技股份有限公司
沈阳和研科技股份有限公司
魏书琦
;
齐飘
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机构:
沈阳和研科技股份有限公司
沈阳和研科技股份有限公司
齐飘
;
吴德宝
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机构:
沈阳和研科技股份有限公司
沈阳和研科技股份有限公司
吴德宝
;
徐鹏
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机构:
沈阳和研科技股份有限公司
沈阳和研科技股份有限公司
徐鹏
;
李文龙
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机构:
沈阳和研科技股份有限公司
沈阳和研科技股份有限公司
李文龙
.
中国专利
:CN120933209A
,2025-11-11
[10]
清洗系统、晶圆清洗设备及晶圆浸润水洗方法
[P].
史蒂文·贺·汪
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史蒂文·贺·汪
;
金涛
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金涛
;
樊芸
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樊芸
;
王铮
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王铮
.
中国专利
:CN112599441A
,2021-04-02
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