处理用载体基板

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN202430460051.7

申请日：

2024-07-23

公开(公告)号：

CN309218158S

公开(公告)日：

2025-04-04

发明(设计)人：

境昌孝三根阳介

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

14-99

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-04	授权	授权

共 50 条

[1]

处理用载体基板 [P].

福冈哲夫 ;

境昌孝 ;

山崎刚 ;

道中悟志 .

日本专利 :CN308920145S ,2024-11-01

[2]

基板处理装置用舟皿 [P].

三部诚 ;

津里诚 ;

藤井悟史 .

中国专利 :CN305516462S ,2019-12-27

[3]

基板载体 [P].

巴斯卡尔·普拉萨德 ;

托马斯·布里泽哲科 ;

克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 ;

阿迪蒂亚·库马尔 ;

维杰·帕蒂尔 .

美国专利 :CN309204879S ,2025-03-28

[4]

基板载体 [P].

弗雷德·埃里克·鲁兰 ;

萨米特·巴坦卡 ;

维杰·D·帕克河 ;

丹尼尔·李·迪尔 ;

朱明伟 ;

高滨宏行 ;

兰迪·D·施密丁 .

中国专利 :CN305843428S ,2020-06-12

[5]

基板处理单元 [P].

属优作 ;

川崎裕通 .

中国专利 :CN304265917S ,2017-09-01

[6]

基板处理单元 [P].

属优作 ;

川崎裕通 .

中国专利 :CN304293419S ,2017-09-22

[7]

基板处理用碱性水溶液组合物 [P].

石川典夫 ;

守田菊惠 .

中国专利 :CN101717939A ,2010-06-02

[8]

半导体玻璃基板处理设备前端模块 [P].

冯琳 ;

张晓军 ;

朱新华 .

中国专利 :CN308499847S ,2024-03-08

[9]

基板载体 [P].

巴斯卡尔·普拉萨德 ;

托马斯·布里泽哲科 ;

克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 ;

阿迪蒂亚·库马尔 ;

维杰·帕蒂尔 .

美国专利 :CN308929832S ,2024-11-08

[10]

载体及使用该载体的基板的制造方法 [P].

J·珀姆查 .

中国专利 :CN108349063A ,2018-07-31

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