一种自对准T型P-GaN栅GaN基射频HEMT制作方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411643959.7
申请日
2024-11-18
公开(公告)号
CN119789450A
公开(公告)日
2025-04-08
发明(设计)人
何佳琦 王仝 刘志宏 周瑾 冯欣 杜航海 张苇杭 邢伟川 张进成 郝跃
申请人
西安电子科技大学广州研究院 西安电子科技大学
申请人地址
510555 广东省广州市黄埔区中新广州知识城知明路83号
IPC主分类号
H10D30/01
IPC分类号
H10D64/01 H10D64/27
代理机构
深圳科润知识产权代理事务所(普通合伙) 44724
代理人
刘强强
法律状态
实质审查的生效
国省代码
陕西省 西安市
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共 50 条
[1]
一种自对准T型P-GaN栅GaN基射频HEMT制作方法 [P]. 
何佳琦 ;
王仝 ;
刘志宏 ;
周瑾 ;
冯欣 ;
杜航海 ;
张苇杭 ;
邢伟川 ;
张进成 ;
郝跃 .
中国专利 :CN119789450B ,2025-12-12
[2]
一种T型P-GaN栅GaN射频HEMT器件及其制备方法 [P]. 
王仝 ;
何佳琦 ;
刘志宏 ;
周瑾 ;
冯欣 ;
杜航海 ;
张苇杭 ;
邢伟川 ;
张进成 ;
郝跃 .
中国专利 :CN119789465A ,2025-04-08
[3]
GaN基的p-GaN增强型HEMT器件及其制作方法 [P]. 
赵杰 ;
付凯 ;
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郝荣晖 ;
陈扶 ;
于国浩 ;
蔡勇 ;
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[4]
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施媛媛 ;
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[5]
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[6]
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于国浩 ;
蔡勇 ;
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[7]
一种自对准T型栅GaN基HEMT器件结构及制备方法 [P]. 
刘志宏 ;
王仝 ;
李振元 ;
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杜航海 ;
邢伟川 ;
张进成 ;
郝跃 .
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[8]
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[9]
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[10]
GaN基HEMT器件及其制作方法 [P]. 
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