半导体装置及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202210825455.1
申请日
2022-07-13
公开(公告)号
CN115101542B
公开(公告)日
2025-03-28
发明(设计)人
吴尚霖
申请人
友达光电股份有限公司
申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区
IPC主分类号
H10D86/60
IPC分类号
H10D86/01
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
王锐
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
吴尚霖 .
中国专利 :CN115101542A ,2022-09-23
[2]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
吴尚霖 ;
陈衍豪 .
中国专利 :CN115050839A ,2022-09-13
[3]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
吴尚霖 ;
陈衍豪 .
中国专利 :CN115050839B ,2025-03-21
[4]
半导体装置、半导体装置封装及其制造方法 [P]. 
黄文宏 .
中国专利 :CN112951814A ,2021-06-11
[5]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
山崎舜平 ;
宫入秀和 ;
秋元健吾 ;
白石康次郎 .
中国专利 :CN105514124A ,2016-04-20
[6]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
范扬顺 .
中国专利 :CN115050761B ,2025-02-07
[7]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
范扬顺 .
中国专利 :CN115050761A ,2022-09-13
[8]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
山崎舜平 ;
宫入秀和 ;
秋元健吾 ;
白石康次郎 .
中国专利 :CN101640219A ,2010-02-03
[9]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
江家维 ;
范扬顺 ;
黄震铄 .
中国专利 :CN115050838A ,2022-09-13
[10]
半导体装置及其制造方法 [P]. 
中野文树 ;
加藤纯男 .
中国专利 :CN107851668B ,2018-03-27