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結晶化ガラス、高周波用基板および結晶化ガラスの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20250005698
申请日
:
2025-01-15
公开(公告)号
:
JP2025061344A
公开(公告)日
:
2025-04-10
发明(设计)人
:
KAJIWARA TAKAHITO
TSUCHIYA HIROYUKI
OGAWA TOMOTAKA
AKATSUKA KIMIAKI
申请人
:
AGC INC
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C03C10/04
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
結晶化ガラス、高周波用基板および結晶化ガラスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7622734B2
,2025-01-28
[2]
結晶化ガラス、高周波用基板、液晶用アンテナおよび結晶化ガラスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025164800A
,2025-10-30
[3]
結晶化ガラス、高周波用基板、液晶用アンテナおよび結晶化ガラスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7732461B2
,2025-09-02
[4]
結晶化ガラス、誘電体材料及び高周波誘電体デバイス[ja]
[P].
HOSODA YOHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NIPPON ELECTRIC GLASS CO LTD
NIPPON ELECTRIC GLASS CO LTD
HOSODA YOHEI
;
IWAO KATSU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NIPPON ELECTRIC GLASS CO LTD
NIPPON ELECTRIC GLASS CO LTD
IWAO KATSU
.
日本专利
:JP2024035396A
,2024-03-14
[5]
結晶化ガラスと窒化アルミニウム焼結体の接合体およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2001044143A1
,2004-01-08
[6]
シリカガラス、シリカガラスを用いた高周波デバイス、およびシリカガラスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7601085B2
,2024-12-17
[7]
結晶製造方法及び結晶製造装置[ja]
[P].
TOMITA TAKETOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
C & A CORP
C & A CORP
TOMITA TAKETOSHI
;
YOSHIKAWA AKIRA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
C & A CORP
C & A CORP
YOSHIKAWA AKIRA
;
VLADIMIR KOCHURIKHIN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
C & A CORP
C & A CORP
VLADIMIR KOCHURIKHIN
;
LIUDMILA GUSHCHINA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
C & A CORP
C & A CORP
LIUDMILA GUSHCHINA
;
SHOJI YASUHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
C & A CORP
C & A CORP
SHOJI YASUHIRO
;
TAKAHASHI ISAO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
C & A CORP
C & A CORP
TAKAHASHI ISAO
;
KAMATA KEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
C & A CORP
C & A CORP
KAMATA KEI
.
日本专利
:JP2025004205A
,2025-01-14
[8]
HDD用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、及びHDD用ガラス基板[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014103246A1
,2017-01-12
[9]
強化ガラスの加工方法及び強化ガラス用加工装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014033905A1
,2016-08-08
[10]
ガラスコア多層配線基板の製造方法、ガラスコア多層配線基板および高周波モジュール基板[ja]
[P].
日本专利
:JP7439497B2
,2024-02-28
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