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一种用于晶圆研磨抛光的设备

被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202420750563.1
申请日：
2024-04-12
公开(公告)号：
CN222818604U
公开(公告)日：
2025-05-02
发明(设计)人：
李可 杨存权
申请人：
广西利兴数字科技集团有限公司
申请人地址：
530213 广西壮族自治区南宁市青秀区天合路8号中国-东盟数字经济产业园16B＃楼7楼701室
IPC主分类号：
B24B29/02
IPC分类号：
B24B7/22 B24B55/06
代理机构：
杭州麦知慧知识产权代理有限公司 33630
代理人：
孙一立
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-05-02 授权 授权
共 50 条
[1]
一种用于晶圆研磨抛光的辅助设备 [P]. 
王永净 ;
陈基生 .
中国专利 :CN217143546U ,2022-08-09
[2]
一种晶圆研磨抛光设备 [P]. 
申振 ;
周子林 ;
孔慧 .
中国专利 :CN217371899U ,2022-09-06
[3]
一种新型晶圆研磨抛光设备 [P]. 
王岳峰 .
中国专利 :CN210704236U ,2020-06-09
[4]
一种晶圆研磨抛光设备 [P]. 
聂伟 ;
陈志远 ;
姜红涛 ;
孔凡苑 ;
孟强 ;
曹文文 ;
魏通 .
中国专利 :CN209425259U ,2019-09-24
[5]
一种晶圆片的研磨抛光装置 [P]. 
胡德立 .
中国专利 :CN220881664U ,2024-05-03
[6]
一种用于晶圆研磨抛光的辅助设备 [P]. 
连红雨 ;
张涵 ;
程蕊 .
中国专利 :CN120503120A ,2025-08-19
[7]
一种晶圆研磨抛光结构 [P]. 
周伟 .
中国专利 :CN222661257U ,2025-03-25
[8]
一种晶圆研磨抛光设备及研磨抛光方法 [P]. 
刘少华 ;
郑向光 ;
赵伟帅 ;
李达 ;
李青璇 ;
刘凯辉 .
中国专利 :CN118700014A ,2024-09-27
[9]
一种用于晶圆抛光机研磨头清洗的组件 [P]. 
王泰元 ;
张炜 ;
汪富强 ;
杨顺 .
中国专利 :CN217017638U ,2022-07-22
[10]
一种用于晶圆片研磨抛光的支撑底座 [P]. 
刘南柳 ;
陈蛟 ;
张国义 .
中国专利 :CN204123257U ,2015-01-28
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