一种晶圆研磨抛光设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201920038412.2
申请日
2019-01-10
公开(公告)号
CN209425259U
公开(公告)日
2019-09-24
发明(设计)人
聂伟 陈志远 姜红涛 孔凡苑 孟强 曹文文 魏通
申请人
申请人地址
225128 江苏省扬州市邗江区高新技术产业开发区金荣路19号
IPC主分类号
B24B5700
IPC分类号
B24B4100 B24B3734 B24B4102
代理机构
南京苏科专利代理有限责任公司 32102
代理人
董旭东
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种晶圆研磨抛光设备 [P]. 
申振 ;
周子林 ;
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一种晶圆研磨抛光结构 [P]. 
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中国专利 :CN222661257U ,2025-03-25
[3]
一种新型晶圆研磨抛光设备 [P]. 
王岳峰 .
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[4]
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[5]
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[6]
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刘少华 ;
郑向光 ;
赵伟帅 ;
李达 ;
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刘凯辉 .
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[7]
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[8]
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[9]
晶圆片研磨抛光装置 [P]. 
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[10]
一种晶圆研磨设备 [P]. 
刘尚书 ;
汪民 ;
黄伟 ;
施建华 .
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