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具有静电卡盘的基板处理装置及基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011371910.2
申请日
:
2020-11-30
公开(公告)号
:
CN112992639B
公开(公告)日
:
2025-04-29
发明(设计)人
:
野泽俊久
申请人
:
ASMIP私人控股有限公司
申请人地址
:
荷兰阿尔梅勒
IPC主分类号
:
H01J37/32
IPC分类号
:
H01L21/683
C23C16/458
C23C16/50
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
王冉
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-29
授权
授权
共 50 条
[1]
具有静电卡盘的基板处理装置及基板处理方法
[P].
野泽俊久
论文数:
0
引用数:
0
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0
野泽俊久
.
中国专利
:CN112992639A
,2021-06-18
[2]
静电卡盘与基板处理装置
[P].
李元行
论文数:
0
引用数:
0
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0
李元行
.
中国专利
:CN103794540B
,2014-05-14
[3]
静电卡盘、基板处理装置以及基板处理方法
[P].
高炫卓
论文数:
0
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0
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0
高炫卓
;
李相起
论文数:
0
引用数:
0
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0
李相起
.
中国专利
:CN113675127A
,2021-11-19
[4]
基板处理装置以及静电卡盘
[P].
冈信介
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈信介
.
日本专利
:CN120500912A
,2025-08-15
[5]
静电卡盘、基板处理装置以及基板保持方法
[P].
佐佐木康晴
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐佐木康晴
.
日本专利
:CN110379757B
,2024-03-22
[6]
静电卡盘、基板处理装置以及基板保持方法
[P].
佐佐木康晴
论文数:
0
引用数:
0
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0
佐佐木康晴
.
中国专利
:CN110379757A
,2019-10-25
[7]
静电卡盘的制造方法、静电卡盘以及基板处理装置
[P].
高山将步
论文数:
0
引用数:
0
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0
高山将步
.
中国专利
:CN113345828A
,2021-09-03
[8]
基板处理装置及基板处理方法
[P].
哈鲁琼·梅利基扬
论文数:
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哈鲁琼·梅利基扬
;
安宗焕
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安宗焕
;
具滋明
论文数:
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具滋明
;
李相起
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李相起
;
金荣斌
论文数:
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0
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金荣斌
;
南信佑
论文数:
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0
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0
南信佑
.
中国专利
:CN109727840A
,2019-05-07
[9]
静电卡盘和其制造方法以及基板处理装置
[P].
李济熙
论文数:
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0
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0
李济熙
;
李相起
论文数:
0
引用数:
0
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李相起
.
中国专利
:CN113707591A
,2021-11-26
[10]
静电卡盘和其制造方法以及基板处理装置
[P].
李济熙
论文数:
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0
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李济熙
;
李相起
论文数:
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
李相起
.
韩国专利
:CN113707591B
,2024-11-29
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