一种用于铜钼膜层的蚀刻液和蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510295144.2

申请日：

2025-03-13

公开(公告)号：

CN120119252A

公开(公告)日：

2025-06-10

发明(设计)人：

刘长乐严为刚李闯张红伟黄海东胡天齐

申请人：

江苏和达电子科技有限公司

申请人地址：

212212 江苏省镇江市新坝镇扬中长江大桥东侧

IPC主分类号：

C23F1/18

IPC分类号：

C23F1/26

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

巩克栋

法律状态：

公开

国省代码：

江苏省镇江市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-10	公开	公开
2025-06-27	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23F 1/18申请日:20250313

共 50 条

[1]

用于铜/钼膜层的金属蚀刻液及其蚀刻方法 [P].

武岳 ;

雍玮娜 .

中国专利 :CN106498398A ,2017-03-15

[2]

用于铜钼膜层的蚀刻剂与铜钼膜层的蚀刻方法 [P].

张月红 ;

何毅烽 .

中国专利 :CN112522705A ,2021-03-19

[3]

用于铜/钼膜层的蚀刻液及其应用 [P].

邓金全 ;

李嘉 ;

赵芬利 .

中国专利 :CN108004550A ,2018-05-08

[4]

用于铜钼金属膜层的蚀刻液及蚀刻方法 [P].

赵芬利 .

中国专利 :CN109023370A ,2018-12-18

[5]

一种用于铜/钼（铌）/IGZO膜层的蚀刻液、蚀刻补充液及其制备方法和应用 [P].

徐帅 ;

张红伟 ;

李闯 ;

胡天齐 ;

钱铁民 .

中国专利 :CN111808612A ,2020-10-23

[6]

一种应用于铜钼膜层的金属蚀刻液 [P].

卢燕燕 ;

张丽燕 .

中国专利 :CN108570678B ,2018-09-25

[7]

蚀刻液组合物及铜钼膜层的蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN111074278A ,2020-04-28

[8]

用于包含铜层和钼层的多层结构膜的蚀刻液 [P].

玉井聪 ;

冈部哲 ;

松原将英 ;

夕部邦夫 .

中国专利 :CN102985596A ,2013-03-20

[9]

用于铜/钼膜层的蚀刻液及其应用 [P].

赵芬利 .

中国专利 :CN107858685A ,2018-03-30

[10]

一种强化钼铌合金蚀刻的铜蚀刻液及蚀刻方法 [P].

李涛 ;

章佳寅 ;

徐杨 ;

沈夏军 ;

顾梦佳 ;

任奕宇 ;

朱龙 .

中国专利 :CN117737733A ,2024-03-22

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