一种均匀性可调式镀膜设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510423034.X

申请日：

2025-04-07

公开(公告)号：

CN119932514A

公开(公告)日：

2025-05-06

发明(设计)人：

张永胜庄炳河张晓鹏伍发根徐旻生杨凤鸣

申请人：

奥卓真空设备技术（珠海）有限公司

申请人地址：

519000 广东省珠海市香洲区天星五路159号1栋804号

IPC主分类号：

C23C14/56

IPC分类号：

C23C14/50 C23C14/54 H01L21/67

代理机构：

广东富状元知识产权代理有限公司 44928

代理人：

邓大文

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-23	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/56申请日:20250407
2025-05-06	公开	公开

共 50 条

[1]

一种可调节镀膜均匀性的镀膜设备 [P].

刘晓东 .

中国专利 :CN218203010U ,2023-01-03

[2]

一种可调式的磁控溅射镀膜设备 [P].

匡国庆 .

中国专利 :CN115261814B ,2024-04-05

[3]

一种可调式平面阴极结构及其镀膜设备 [P].

匡国庆 .

中国专利 :CN216074015U ,2022-03-18

[4]

一种高均匀性可调式UVled光刻光源组 [P].

石清泉 ;

黄平龙 .

中国专利 :CN223123364U ,2025-07-18

[5]

一种镀膜材料均匀沉积的镀膜设备 [P].

陈琳 ;

侯庆艳 ;

张一凡 ;

金小越 ;

庞盼 .

中国专利 :CN119640209A ,2025-03-18

[6]

一种花铁架表面均匀镀膜设备 [P].

沈惠峰 ;

沈惠菊 ;

许浩然 ;

刘健 ;

陈忠兵 ;

费兵 .

中国专利 :CN212800515U ,2021-03-26

[7]

一种增加镀膜均匀性的装置 [P].

章明 ;

职森森 ;

刘晓瑞 ;

刘锐 ;

陈伟 ;

吴仕梁 ;

路忠林 ;

张凤鸣 .

中国专利 :CN212610891U ,2021-02-26

[8]

用于改善薄膜均匀性的镀膜设备 [P].

周云 ;

宋维聪 ;

解文骏 ;

方合 .

中国专利 :CN112708865A ,2021-04-27

[9]

一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置 [P].

林杜迫 ;

林忠铭 ;

王友良 .

中国专利 :CN221192309U ,2024-06-21

[10]

一种均匀性的多弧离子镀膜设备 [P].

王勇 ;

杨斌 .

中国专利 :CN111197154A ,2020-05-26

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