掩膜的制备方法及其应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510249418.4

申请日：

2025-03-04

公开(公告)号：

CN120048728A

公开(公告)日：

2025-05-27

发明(设计)人：

朱明光王子港吴魁艺刘仲雨

申请人：

天合光能股份有限公司

申请人地址：

213031 江苏省常州市新北区天合光伏产业园天合路2号

IPC主分类号：

H01L21/033

IPC分类号：

H01L21/268 H10F71/00

代理机构：

北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015

代理人：

崔方方

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/033申请日:20250304
2025-05-27	公开	公开

共 50 条

[1]

TOPCon电池掩膜层的制备方法及其应用 [P].

何秋霞 ;

伏进文 ;

杜文轩 .

中国专利 :CN118800829A ,2024-10-18

[2]

制备掩膜用涂料、掩膜及其制备方法 [P].

周黎旸 ;

童继红 ;

傅华康 ;

阮超 .

中国专利 :CN119119809A ,2024-12-13

[3]

掩膜条及其制备方法、掩膜基板、掩膜板的制备方法 [P].

王威 .

中国专利 :CN118932282A ,2024-11-12

[4]

低成本掩膜版及其制备方法和应用该掩膜版的光刻方法 [P].

解东泰 ;

陈春生 ;

赵培培 .

中国专利 :CN120103666A ,2025-06-06

[5]

掩膜版及其制备方法 [P].

张峰杰 ;

王伟杰 ;

张可忆 ;

薛金祥 ;

孙中元 .

中国专利 :CN118497664A ,2024-08-16

[6]

掩膜板及掩膜板的制备方法 [P].

张峰杰 ;

李腾 ;

王伟杰 ;

孙中元 ;

薛金祥 ;

张可忆 .

中国专利 :CN117926175A ,2024-04-26

[7]

掩膜版及掩膜版的制备方法 [P].

顾明亮 ;

叶超 ;

江俊波 .

中国专利 :CN119024636A ,2024-11-26

[8]

掩膜板、掩膜板组件及掩膜板的制备方法 [P].

邢汝博 .

中国专利 :CN119932476A ,2025-05-06

[9]

一种掩膜板、制备及其应用 [P].

茆胜 .

中国专利 :CN113201710A ,2021-08-03

[10]

SE掺杂用掩膜胶及其制备方法和应用 [P].

邓舜 ;

马琦雯 .

中国专利 :CN114479658A ,2022-05-13

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