低成本掩膜版及其制备方法和应用该掩膜版的光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510321009.0

申请日：

2025-03-18

公开(公告)号：

CN120103666A

公开(公告)日：

2025-06-06

发明(设计)人：

解东泰陈春生赵培培

申请人：

宁波芯链光电有限公司

申请人地址：

315201 浙江省宁波市镇海区庄市街道兴庄路9号创E慧谷42号楼A楼201室

IPC主分类号：

G03F1/50

IPC分类号：

G03F1/68

代理机构：

宁波诚源专利事务所有限公司 33102

代理人：

孙盼峰;吴艳霞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-06	公开	公开
2025-06-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/50申请日:20250318

共 50 条

[1]

光刻方法、掩膜版及其制备方法 [P].

梁晋楠 ;

唐文尧 ;

郭晓波 .

中国专利 :CN120491384A ,2025-08-15

[2]

光掩膜版及其制备方法 [P].

徐佳 ;

宋晓辉 ;

梁明晓 .

中国专利 :CN117850157B ,2024-09-17

[3]

掩膜版、掩膜版缺陷修复方法、掩膜版的使用方法以及半导体结构 [P].

秦学飞 ;

王杰 ;

薛粉 ;

凌文君 ;

李德建 .

中国专利 :CN112394614B ,2024-12-17

[4]

掩膜版、掩膜版缺陷修复方法、掩膜版的使用方法以及半导体结构 [P].

秦学飞 ;

王杰 ;

薛粉 ;

凌文君 ;

李德建 .

中国专利 :CN112394614A ,2021-02-23

[5]

掩膜版上版装置及光刻机 [P].

叶小龙 ;

刘宇琪 .

中国专利 :CN215376087U ,2021-12-31

[6]

光刻机检测用掩膜版 [P].

李伟峰 .

中国专利 :CN106292175A ,2017-01-04

[7]

拼接式掩膜版及其制造方法 [P].

范元骏 .

中国专利 :CN109856927A ,2019-06-07

[8]

掩膜版测量装置 [P].

梁宇辰 ;

李华 .

中国专利 :CN220773416U ,2024-04-12

[9]

一种掩膜板及该掩膜板的制备方法和应用 [P].

何麟 ;

陈红 ;

刘嵩 ;

李维维 .

中国专利 :CN103757588B ,2014-04-30

[10]

光刻掩膜版、制备方法及改善光刻机镜头过热的方法 [P].

杨伟杰 .

中国专利 :CN120315241A ,2025-07-15

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