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掩膜版上版装置及光刻机
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202121922406.7
申请日：
2021-08-16
公开(公告)号：
CN215376087U
公开(公告)日：
2021-12-31
发明(设计)人：
叶小龙
刘宇琪
申请人：
申请人地址：
518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
深圳壹舟知识产权代理事务所(普通合伙) 44331
代理人：
欧志明
法律状态：
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-12-13 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更事项:专利权人 变更前:深圳市龙图光电有限公司 变更后:深圳市龙图光罩股份有限公司 变更事项:地址 变更前:518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼 变更后:518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新玉路北侧圣佐治科技工业园4#厂房一楼 |
| 2021-12-31 | 授权 | 授权 |