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光刻机掩膜版对准系统

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510013797.7
申请日：
2025-01-06
公开(公告)号：
CN119395954A
公开(公告)日：
2025-02-07
发明(设计)人：
张琪 符友银 张曼妮
申请人：
新毅东（北京）科技有限公司
申请人地址：
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街甲5号3号楼1层101-8
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
北京唐颂永信知识产权代理有限公司 11755
代理人：
刘伟
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-02-07 公开 公开
2025-02-25 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20250106
2025-04-04 授权 授权
共 50 条
[1]
光刻机掩膜版对准系统 [P]. 
张琪 ;
符友银 ;
张曼妮 .
中国专利 :CN119395954B ,2025-04-04
[2]
掩膜对准系统和方法、以及光刻机 [P]. 
张惠 ;
刘功振 ;
文斌 ;
韦宏图 .
中国专利 :CN117930602B ,2024-07-02
[3]
掩膜对准系统和方法、以及光刻机 [P]. 
张惠 ;
刘功振 ;
文斌 ;
韦宏图 .
中国专利 :CN117930602A ,2024-04-26
[4]
光刻机掩模预对准系统 [P]. 
朱立荣 ;
储兆祥 .
中国专利 :CN101403865A ,2009-04-08
[5]
光刻机晶圆对准系统 [P]. 
张琪 ;
符友银 ;
张国军 .
中国专利 :CN120491408A ,2025-08-15
[6]
黄光对准系统、光刻机及其对准方法 [P]. 
蔡瑞 ;
张雷 ;
李伟成 .
中国专利 :CN109358476A ,2019-02-19
[7]
光刻机检测用掩膜版 [P]. 
李伟峰 .
中国专利 :CN106292175A ,2017-01-04
[8]
光刻机的掩膜版冷却系统 [P]. 
骆建钢 ;
徐晓敏 .
中国专利 :CN210776182U ,2020-06-16
[9]
掩膜版上版装置及光刻机 [P]. 
叶小龙 ;
刘宇琪 .
中国专利 :CN215376087U ,2021-12-31
[10]
掩膜对准标记组合、掩膜对准系统、光刻装置及其方法 [P]. 
陈小娟 ;
忻斌杰 ;
李术新 .
中国专利 :CN111752112B ,2020-10-09
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