光刻机掩模预对准系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810202699.4

申请日：

2008-11-13

公开(公告)号：

CN101403865A

公开(公告)日：

2009-04-08

发明(设计)人：

朱立荣储兆祥

申请人：

申请人地址：

201203上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F900 G02B504 G02B110 G02B102 G02B2700

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-07	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101754853985 IPC(主分类):G03F 9/00 专利号:ZL2008102026994 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
2009-06-03	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-03-30	授权	授权
2009-04-08	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻机晶圆对准系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

张国军 .

中国专利 :CN120491408A ,2025-08-15

[2]

黄光对准系统、光刻机及其对准方法 [P].

蔡瑞 ;

张雷 ;

李伟成 .

中国专利 :CN109358476A ,2019-02-19

[3]

一种光刻机预对准系统校准工具 [P].

牟宏惺 .

中国专利 :CN205910497U ,2017-01-25

[4]

用于光刻机预对准系统的硅片放置装置 [P].

刘正伟 ;

朱凯彬 ;

魏益波 .

中国专利 :CN117471865B ,2024-04-30

[5]

用于光刻机预对准系统的硅片放置装置 [P].

连国栋 .

中国专利 :CN101487984A ,2009-07-22

[6]

用于光刻机预对准系统的硅片放置装置 [P].

刘正伟 ;

朱凯彬 ;

魏益波 .

中国专利 :CN117471865A ,2024-01-30

[7]

光刻机掩模预对准装置及方法 [P].

张品祥 ;

郭勇 ;

朱立荣 .

中国专利 :CN102486622B ,2012-06-06

[8]

光刻机掩膜版对准系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

张曼妮 .

中国专利 :CN119395954A ,2025-02-07

[9]

光刻机掩膜版对准系统 [P].

张琪 ;

符友银 ;

张曼妮 .

中国专利 :CN119395954B ,2025-04-04

[10]

一种基于位置传感器的光刻机掩模预对准系统 [P].

张品祥 ;

储兆祥 .

中国专利 :CN104345574B ,2015-02-11

← 1 2 3 4 5 →