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光刻机晶圆对准系统
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510930143.0
申请日：
2025-07-07
公开(公告)号：
CN120491408A
公开(公告)日：
2025-08-15
发明(设计)人：
张琪
符友银
张国军
申请人：
新毅东（北京）科技有限公司
申请人地址：
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街甲5号3号楼1层101-8
IPC主分类号：
G03F9/00
IPC分类号：
代理机构：
北京唐颂永信知识产权代理有限公司 11755
代理人：
刘伟
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-08-15 | 公开 | 公开 |
| 2025-09-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 9/00申请日:20250707 |