一种蚀刻液冰粒化的蚀刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202210946138.5

申请日：

2022-08-08

公开(公告)号：

CN115442974B

公开(公告)日：

2025-06-10

发明(设计)人：

邹佳祁严清霞廖润秋简婷刘恒发

申请人：

胜宏科技（惠州）股份有限公司

申请人地址：

516211 广东省惠州市惠阳区淡水镇新侨村行诚科技园

IPC主分类号：

H05K3/06

IPC分类号：

代理机构：

广州粤高专利商标代理有限公司 44102

代理人：

黄丽娴

法律状态：

授权

国省代码：

广东省惠州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-10	授权	授权
2025-11-18	专利实施许可合同备案的生效、变更及注销	专利实施许可合同备案的生效IPC(主分类):H05K 3/06合同备案号:X2025980031216让与人:胜宏科技（惠州）股份有限公司受让人:胜华电子（惠阳）有限公司发明名称:一种蚀刻液冰粒化的蚀刻方法申请日:20220808申请公布日:20221206授权公告日:20250610许可种类:普通许可备案日期:20251103

共 50 条

[1]

一种蚀刻液冰粒化的蚀刻方法 [P].

邹佳祁 ;

严清霞 ;

廖润秋 ;

简婷 ;

刘恒发 .

中国专利 :CN115442974A ,2022-12-06

[2]

蚀刻液、该蚀刻液的制造方法和使用该蚀刻液的蚀刻方法 [P].

河野良 ;

加藤胜 .

中国专利 :CN103132078A ,2013-06-05

[3]

蚀刻方法及蚀刻液 [P].

宋智辉 ;

王辉 ;

廖辉华 ;

康报虹 .

中国专利 :CN115132584A ,2022-09-30

[4]

蚀刻液及蚀刻方法 [P].

荻野悠贵 ;

东嶋真美 ;

林崎将大 ;

王谷稔 .

中国专利 :CN107208280B ,2017-09-26

[5]

蚀刻液和蚀刻方法 [P].

吴豪旭 .

中国专利 :CN113529085A ,2021-10-22

[6]

蚀刻方法和蚀刻液 [P].

石川诚 ;

鎌田浩史 .

中国专利 :CN1946877A ,2007-04-11

[7]

蚀刻液的再生方法、蚀刻方法和蚀刻系统 [P].

伊豆田信彦 ;

村田贡 .

中国专利 :CN100336182C ,2004-05-12

[8]

蚀刻液的再生方法，蚀刻方法及蚀刻装置 [P].

伊豆田信彦 ;

渡津春留 .

中国专利 :CN101303976A ,2008-11-12

[9]

一种TMAH蚀刻液的制备蚀刻方法 [P].

乔正收 ;

王金城 .

中国专利 :CN111876157A ,2020-11-03

[10]

铜的蚀刻液以及蚀刻方法 [P].

齐藤范之 ;

香月隆伸 ;

石川诚 ;

青木真澄 .

中国专利 :CN101098989A ,2008-01-02

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