薄膜トランジスタの製造方法、薄膜トランジスタ[ja]

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申请号
JP20230185303
申请日
2023-10-30
公开(公告)号
JP2025074478A
公开(公告)日
2025-05-14
发明(设计)人
SAKAI TOSHIHIKO HIGASHI DAISUKE FUJIWARA MASAYOSHI
申请人
NISSIN ELECTRIC CO LTD
申请人地址
IPC主分类号
H10D30/67
IPC分类号
H01L21/318 H01L21/363 H10D30/01 H10D64/27
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
薄膜トランジスタの製造方法、薄膜トランジスタ[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010047326A1 ,2012-03-22
[2]
[3]
[4]
薄膜トランジスタおよび薄膜トランジスタの製造方法[ja] [P]. 
TODA TATSUYA .
日本专利 :JP2024099069A ,2024-07-25
[5]
[6]
薄膜トランジスタ基板及び薄膜トランジスタの製造方法[ja] [P]. 
TANAKA ATSUSHI ;
TAKECHI KAZUE .
日本专利 :JP2024092934A ,2024-07-08
[7]
薄膜トランジスタの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015059850A1 ,2017-03-09
[8]
薄膜トランジスタの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2015521804A ,2015-07-30
[9]
薄膜トランジスタの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011027467A1 ,2013-01-31
[10]
薄膜トランジスタの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015083303A1 ,2017-03-16