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半导体装置及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380077610.9
申请日
:
2023-09-06
公开(公告)号
:
CN120167139A
公开(公告)日
:
2025-06-17
发明(设计)人
:
宫田征典
杉浦宽人
杉村温
申请人
:
株式会社电装
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
H10D30/66
IPC分类号
:
H10D30/01
H10D12/00
H10D12/01
代理机构
:
永新专利商标代理有限公司 72002
代理人
:
吕文卓
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-04
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10D 30/66申请日:20230906
2025-06-17
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体装置及其制造方法
[P].
铃木健司
论文数:
0
引用数:
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铃木健司
;
高桥英树
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高桥英树
;
友松佳史
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友松佳史
.
中国专利
:CN101170109A
,2008-04-30
[2]
半导体装置、半导体装置的制造方法
[P].
上马场龙
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上马场龙
;
高桥彻雄
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高桥彻雄
;
古川彰彦
论文数:
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古川彰彦
.
中国专利
:CN110649090A
,2020-01-03
[3]
半导体装置及其制造方法
[P].
吉村充弘
论文数:
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吉村充弘
.
中国专利
:CN111755518A
,2020-10-09
[4]
半导体装置及其制造方法
[P].
高桥英树
论文数:
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高桥英树
.
中国专利
:CN1967868A
,2007-05-23
[5]
半导体装置及其制造方法
[P].
海老池勇史
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海老池勇史
;
油谷直毅
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油谷直毅
.
中国专利
:CN108735736A
,2018-11-02
[6]
半导体装置及其制造方法
[P].
久保博稔
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久保博稔
;
白旗由香利
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白旗由香利
;
松本成仁
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松本成仁
;
山室正伦
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山室正伦
;
龟山工次郎
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龟山工次郎
;
梅本光雄
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梅本光雄
.
中国专利
:CN1841767A
,2006-10-04
[7]
半导体装置及其制造方法
[P].
荒井千广
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荒井千广
.
中国专利
:CN100361312C
,2005-01-12
[8]
半导体装置及其制造方法
[P].
嶋崎丰幸
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嶋崎丰幸
;
大泽胜市
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大泽胜市
;
茶藤哲夫
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茶藤哲夫
;
志水雄三
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志水雄三
.
中国专利
:CN1388593A
,2003-01-01
[9]
半导体装置及其制造方法
[P].
池浦奖悟
论文数:
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池浦奖悟
;
中野敬志
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中野敬志
.
中国专利
:CN115699269A
,2023-02-03
[10]
半导体装置及其制造方法
[P].
纐纈洋章
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纐纈洋章
;
东雅彦
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东雅彦
.
中国专利
:CN101167180A
,2008-04-23
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