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电镀液回流控制系统及控制方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311790502.4
申请日
:
2023-12-22
公开(公告)号
:
CN120193320A
公开(公告)日
:
2025-06-24
发明(设计)人
:
王晖
王坚
贾照伟
杨宏超
陆陈华
吴勐
李彪
代兰奎
申请人
:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢
IPC主分类号
:
C25D21/12
IPC分类号
:
C25D21/18
C25D17/00
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
杜娟
法律状态
:
公开
国省代码
:
上海市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-24
公开
公开
2025-09-09
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C25D 21/12申请日:20231222
共 50 条
[1]
电镀液回流控制系统及控制方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
王晖
;
王坚
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
王坚
;
贾照伟
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
贾照伟
;
杨宏超
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
杨宏超
;
陆陈华
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
陆陈华
;
吴勐
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
吴勐
;
李彪
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
李彪
;
代兰奎
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
代兰奎
.
中国专利
:CN120193321A
,2025-06-24
[2]
电镀液回流装置及电镀装置
[P].
王坚
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
王坚
;
贾照伟
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
贾照伟
;
杨宏超
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
杨宏超
;
陆陈华
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
陆陈华
;
秦岭
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盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
秦岭
;
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机构:
王晖
.
中国专利
:CN113026085B
,2025-06-03
[3]
电镀液回流装置及电镀装置
[P].
王坚
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王坚
;
贾照伟
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贾照伟
;
杨宏超
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杨宏超
;
陆陈华
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陆陈华
;
秦岭
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秦岭
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN113026085A
,2021-06-25
[4]
电镀槽液位控制系统
[P].
甘林
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甘林
;
林向武
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林向武
;
蔡志浩
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蔡志浩
.
中国专利
:CN205171008U
,2016-04-20
[5]
电镀液自动添加控制系统
[P].
赵洪良
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赵洪良
.
中国专利
:CN204491022U
,2015-07-22
[6]
电镀液温度控制系统
[P].
冉彦祥
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冉彦祥
;
赵喜华
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赵喜华
.
中国专利
:CN202265621U
,2012-06-06
[7]
电镀液温度控制系统
[P].
冉彦祥
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冉彦祥
;
赵喜华
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0
赵喜华
.
中国专利
:CN102337579A
,2012-02-01
[8]
一种电镀液的调控方法、控制系统及控制设备
[P].
李凯鸿
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李凯鸿
;
韩焱林
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韩焱林
;
万章欢
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万章欢
;
徐正
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徐正
.
中国专利
:CN115433996A
,2022-12-06
[9]
热回流控制系统及方法
[P].
张耀廷
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张耀廷
.
中国专利
:CN102378542A
,2012-03-14
[10]
污泥回流控制系统、方法及污水处理系统
[P].
崔维涛
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崔维涛
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王平
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王平
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李巧丽
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李巧丽
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王坤
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王坤
;
陆伟东
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陆伟东
.
中国专利
:CN104986854A
,2015-10-21
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