一种半导体设备腔体维护盖板装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202422197313.2
申请日
2024-09-06
公开(公告)号
CN223006733U
公开(公告)日
2025-06-20
发明(设计)人
王永清 崔雨 吴凤丽
申请人
拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
申请人地址
110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号
IPC主分类号
H01J37/32
IPC分类号
代理机构
深圳市精英创新知识产权代理有限公司 44740
代理人
刘杰
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
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[2]
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[3]
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[4]
一种半导体清洗腔体及半导体设备 [P]. 
杨仕品 .
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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