基板处理方法和基板处理系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380077797.2

申请日：

2023-11-07

公开(公告)号：

CN120188264A

公开(公告)日：

2025-06-20

发明(设计)人：

金子知广

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

H01L21/306

IPC分类号：

H01L21/304

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李靖

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-20	公开	公开
2025-09-05	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/306申请日:20231107

共 50 条

[1]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

中岛干雄 ;

梅崎翔太 ;

林田贵大 .

日本专利 :CN120077466A ,2025-05-30

[2]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

月野木涉 ;

山本雄一 .

中国专利 :CN102270562B ,2011-12-07

[3]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

土山正志 ;

山本太郎 .

日本专利 :CN117476500A ,2024-01-30

[4]

基板处理系统和基板处理方法 [P].

高木慎介 ;

中岛清次 ;

寺本聪宽 ;

菖蒲凌 .

日本专利 :CN118380358A ,2024-07-23

[5]

基板处理方法和基板处理系统 [P].

月野木涉 ;

山本雄一 .

中国专利 :CN101802978A ,2010-08-11

[6]

基板处理装置、基板处理方法和基板处理系统 [P].

井上正史 ;

泷昭彦 ;

谷口宽树 ;

田中孝佳 ;

中野佑太 .

中国专利 :CN108257890B ,2018-07-06

[7]

基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统 [P].

有贺美辉 ;

山崎和良 ;

青山真太郎 ;

下村晃司 .

中国专利 :CN101326620B ,2008-12-17

[8]

基板处理方法、基板处理系统和基板处理装置 [P].

榎本正志 ;

近藤良弘 .

中国专利 :CN107533955A ,2018-01-02

[9]

基板处理装置、基板处理系统和基板处理方法 [P].

刘福强 ;

王嘉琪 ;

史霄 ;

张康 ;

吴尚东 .

中国专利 :CN117650079A ,2024-03-05

[10]

基板处理方法、基板处理装置和基板处理系统 [P].

村冈祐介 ;

齐藤公续 ;

岩田智巳 ;

深津英司 ;

溝端一国雄 ;

上野博之 ;

奥山靖夫 ;

蒲隆 ;

坂下由彦 ;

渡边克充 ;

宗政淳 ;

大柴久典 ;

猿丸正悟 .

中国专利 :CN1501439A ,2004-06-02

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