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设计版图轮廓计算方法、设备及介质

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510186206.6
申请日：
2025-02-19
公开(公告)号：
CN120163115A
公开(公告)日：
2025-06-17
发明(设计)人：
陈板桥
申请人：
深圳晶源信息技术有限公司
申请人地址：
518000 广东省深圳市福田区福保街道福保社区红棉街8号英达利科技数码园C栋401A
IPC主分类号：
G06F30/392
IPC分类号：
G06F30/398
代理机构：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258
代理人：
杨永恒
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-07-04 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G06F 30/392申请日:20250219
2025-06-17 公开 公开
共 50 条
[1]
设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
黄浩鑫 .
中国专利 :CN119758659A ,2025-04-04
[2]
设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
黄浩鑫 .
中国专利 :CN119758659B ,2025-12-05
[3]
掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
马柯 ;
丁明 ;
李柏珍 .
中国专利 :CN120335227A ,2025-07-18
[4]
掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
周桌霖 .
中国专利 :CN119882344A ,2025-04-25
[5]
掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
周桌霖 .
中国专利 :CN119882344B ,2025-10-17
[6]
缺陷版图的修复方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
黄杰 .
中国专利 :CN119575751B ,2025-10-03
[7]
缺陷版图的修复方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
黄杰 .
中国专利 :CN119575751A ,2025-03-07
[8]
版图缺陷位置的确定方法、装置、设备、介质及程序产品 [P]. 
何平 ;
张鸿儒 ;
丁明 .
中国专利 :CN119416733A ,2025-02-11
[9]
设计版图的优化方法、装置、设备、介质及产品 [P]. 
余梦晴 .
中国专利 :CN120297217A ,2025-07-11
[10]
晶圆偏移值计算方法、装置、设备及存储介质 [P]. 
吴文涛 .
中国专利 :CN118670257A ,2024-09-20
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