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基板处理方法以及基板处理装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510327317.4
申请日：
2019-12-16
公开(公告)号：
CN120149157A
公开(公告)日：
2025-06-13
发明(设计)人：
吉田幸史
上田大
申请人：
株式会社斯库林集团
申请人地址：
日本京都府
IPC主分类号：
H01L21/02
IPC分类号：
H01L21/67
代理机构：
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人：
宋晓宝
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-06-13 | 公开 | 公开 |
| 2025-07-01 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/02申请日:20191216 |