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基板处理装置以及基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710850534.7
申请日
:
2017-09-20
公开(公告)号
:
CN107871689B
公开(公告)日
:
2018-04-03
发明(设计)人
:
杉冈真治
申请人
:
申请人地址
:
日本京都府京都市
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
向勇;崔炳哲
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-05-01
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20170920
2022-05-17
授权
授权
2018-04-03
公开
公开
共 50 条
[1]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
吉田幸史
论文数:
0
引用数:
0
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0
吉田幸史
;
上田大
论文数:
0
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上田大
.
中国专利
:CN111326456A
,2020-06-23
[2]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
吉田幸史
论文数:
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0
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
吉田幸史
;
上田大
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
上田大
.
日本专利
:CN120149157A
,2025-06-13
[3]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
大泽笃史
论文数:
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0
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大泽笃史
.
中国专利
:CN101114572B
,2008-01-30
[4]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
吉田幸史
论文数:
0
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0
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吉田幸史
.
中国专利
:CN113950382A
,2022-01-18
[5]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
吉田幸史
论文数:
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0
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
吉田幸史
.
日本专利
:CN113950382B
,2024-05-17
[6]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
平瀬圭太
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平瀬圭太
;
小仓康司
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小仓康司
;
吉田博司
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吉田博司
;
永井高志
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永井高志
;
野中纯
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野中纯
;
本田拓巳
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本田拓巳
.
中国专利
:CN113725121A
,2021-11-30
[7]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
小山裕贵
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机构:
芝浦机械电子装置株式会社
芝浦机械电子装置株式会社
小山裕贵
.
日本专利
:CN117716478A
,2024-03-15
[8]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
吉田幸史
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0
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
吉田幸史
;
上田大
论文数:
0
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0
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
上田大
.
日本专利
:CN111326456B
,2025-03-25
[9]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
佐佐木悠太
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佐佐木悠太
;
塙洋祐
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塙洋祐
;
滩原壮一
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滩原壮一
;
上田大
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上田大
;
北川广明
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北川广明
;
奥村勝弥
论文数:
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奥村勝弥
.
中国专利
:CN107481954A
,2017-12-15
[10]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
宫川纱希
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
宫川纱希
;
佐藤雅伸
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
佐藤雅伸
;
堀口博司
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
堀口博司
.
日本专利
:CN117941035A
,2024-04-26
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