基板处理装置以及基板处理方法

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专利类型
发明
申请号
CN201710850534.7
申请日
2017-09-20
公开(公告)号
CN107871689B
公开(公告)日
2018-04-03
发明(设计)人
杉冈真治
申请人
申请人地址
日本京都府京都市
IPC主分类号
H01L2167
IPC分类号
代理机构
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
向勇;崔炳哲
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
吉田幸史 ;
上田大 .
中国专利 :CN111326456A ,2020-06-23
[2]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
吉田幸史 ;
上田大 .
日本专利 :CN120149157A ,2025-06-13
[3]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
大泽笃史 .
中国专利 :CN101114572B ,2008-01-30
[4]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
吉田幸史 .
中国专利 :CN113950382A ,2022-01-18
[5]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
吉田幸史 .
日本专利 :CN113950382B ,2024-05-17
[6]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
平瀬圭太 ;
小仓康司 ;
吉田博司 ;
永井高志 ;
野中纯 ;
本田拓巳 .
中国专利 :CN113725121A ,2021-11-30
[7]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
小山裕贵 .
日本专利 :CN117716478A ,2024-03-15
[8]
基板处理方法以及基板处理装置 [P]. 
吉田幸史 ;
上田大 .
日本专利 :CN111326456B ,2025-03-25
[9]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
佐佐木悠太 ;
塙洋祐 ;
滩原壮一 ;
上田大 ;
北川广明 ;
奥村勝弥 .
中国专利 :CN107481954A ,2017-12-15
[10]
基板处理装置以及基板处理方法 [P]. 
宫川纱希 ;
佐藤雅伸 ;
堀口博司 .
日本专利 :CN117941035A ,2024-04-26