基板处理装置以及基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710136734.2

申请日：

2007-07-25

公开(公告)号：

CN101114572B

公开(公告)日：

2008-01-30

发明(设计)人：

大泽笃史

申请人：

申请人地址：

日本京都府京都市

IPC主分类号：

H01L2100

IPC分类号：

H01L21306 H01L2167 B08B300 B08B308

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司 72003

代理人：

徐恕

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2008-01-30	公开	公开
2015-04-01	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101713154893 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL2007101367342 变更事项:专利权人变更前:大日本网屏制造株式会社变更后:斯克林集团公司变更事项:地址变更前:日本京都府京都市变更后:日本京都府京都市
2015-04-01	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101713154892 IPC(主分类):H01L 21/00 专利号:ZL2007101367342 变更事项:专利权人变更前:大日本网目版制造株式会社变更后:大日本网屏制造株式会社变更事项:地址变更前:日本京都府京都市变更后:日本京都府京都市
2011-08-03	授权	授权
2008-03-19	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

杉冈真治 .

中国专利 :CN107871689B ,2018-04-03

[2]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

平瀬圭太 ;

小仓康司 ;

吉田博司 ;

永井高志 ;

野中纯 ;

本田拓巳 .

中国专利 :CN113725121A ,2021-11-30

[3]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

小山裕贵 .

日本专利 :CN117716478A ,2024-03-15

[4]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

佐佐木悠太 ;

塙洋祐 ;

滩原壮一 ;

上田大 ;

北川广明 ;

奥村勝弥 .

中国专利 :CN107481954A ,2017-12-15

[5]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

宫川纱希 ;

佐藤雅伸 ;

堀口博司 .

日本专利 :CN117941035A ,2024-04-26

[6]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

泉昭 ;

佐野谦一 .

中国专利 :CN1794430A ,2006-06-28

[7]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

合田和树 ;

岩田敬次 ;

松永恭幸 ;

高桥朋宏 .

中国专利 :CN114068358A ,2022-02-18

[8]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

藤原友则 ;

柴山宣之 ;

吉田幸史 ;

柴田哲弥 ;

仲野彰义 .

中国专利 :CN104992912A ,2015-10-21

[9]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

小林信雄 ;

古川长树 ;

山崎克弘 ;

齐藤裕树 .

中国专利 :CN107275257A ,2017-10-20

[10]

基板处理装置以及基板处理方法 [P].

仓崎浩二 ;

枝光建治 ;

佐藤昌治 ;

武知圭 ;

松村刚至 ;

内田博章 ;

山本滋 ;

高桥朋宏 ;

岩谷浩伸 ;

杉冈真治 .

中国专利 :CN108666235A ,2018-10-16

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