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基板处理装置以及基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202280052366.6
申请日
:
2022-09-27
公开(公告)号
:
CN117716478A
公开(公告)日
:
2024-03-15
发明(设计)人
:
小山裕贵
申请人
:
芝浦机械电子装置株式会社
申请人地址
:
日本神奈川县横浜市荣区笠间二丁目5番1号
IPC主分类号
:
H01L21/306
IPC分类号
:
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
黄健;刘芳
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-04-02
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/306申请日:20220927
2024-03-15
公开
公开
共 50 条
[1]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
大泽笃史
论文数:
0
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0
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大泽笃史
.
中国专利
:CN101114572B
,2008-01-30
[2]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
杉冈真治
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杉冈真治
.
中国专利
:CN107871689B
,2018-04-03
[3]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
平瀬圭太
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平瀬圭太
;
小仓康司
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小仓康司
;
吉田博司
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吉田博司
;
永井高志
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永井高志
;
野中纯
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野中纯
;
本田拓巳
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本田拓巳
.
中国专利
:CN113725121A
,2021-11-30
[4]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
佐佐木悠太
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佐佐木悠太
;
塙洋祐
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塙洋祐
;
滩原壮一
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滩原壮一
;
上田大
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上田大
;
北川广明
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北川广明
;
奥村勝弥
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奥村勝弥
.
中国专利
:CN107481954A
,2017-12-15
[5]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
宫川纱希
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
宫川纱希
;
佐藤雅伸
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
佐藤雅伸
;
堀口博司
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机构:
株式会社斯库林集团
株式会社斯库林集团
堀口博司
.
日本专利
:CN117941035A
,2024-04-26
[6]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
泉昭
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泉昭
;
佐野谦一
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佐野谦一
.
中国专利
:CN1794430A
,2006-06-28
[7]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
合田和树
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合田和树
;
岩田敬次
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岩田敬次
;
松永恭幸
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松永恭幸
;
高桥朋宏
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高桥朋宏
.
中国专利
:CN114068358A
,2022-02-18
[8]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
藤原友则
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藤原友则
;
柴山宣之
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柴山宣之
;
吉田幸史
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吉田幸史
;
柴田哲弥
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柴田哲弥
;
仲野彰义
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仲野彰义
.
中国专利
:CN104992912A
,2015-10-21
[9]
基板处理装置以及基板处理方法
[P].
小林信雄
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小林信雄
;
古川长树
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古川长树
;
山崎克弘
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山崎克弘
;
齐藤裕树
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齐藤裕树
.
中国专利
:CN107275257A
,2017-10-20
[10]
基板处理方法以及基板处理装置
[P].
日野出大辉
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日野出大辉
;
藤井定
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藤井定
.
中国专利
:CN111095495A
,2020-05-01
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