可溶性金属氧化物阴离子CMP浆料

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411940752.6

申请日：

2024-12-26

公开(公告)号：

CN120290103A

公开(公告)日：

2025-07-11

发明(设计)人：

A·W·马丁郭毅

申请人：

杜邦电子材料控股股份有限公司

申请人地址：

美国特拉华州

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

H01L21/306 C23F3/04

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋;乐洪咏

法律状态：

公开

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-11	公开	公开

共 50 条

[1]

可溶性金属氧化物和金属氧化物溶液 [P].

P·D·克宁翰 ;

J·麦克马纳斯 .

中国专利 :CN1902287B ,2007-01-24

[2]

生物应用的可溶性氧化物 [P].

M·奥拉 ;

H·法杰霍尔姆 ;

I·坎加斯尼米 ;

J·凯斯瓦拉 ;

P·科特索 ;

K·柯凯拉 ;

N·萨林恩 ;

A·伊里－厄普 .

中国专利 :CN1219919A ,1999-06-16

[3]

减少微擦痕且利于金属氧化物的去除的金属CMP浆料组合物 [P].

李在锡 ;

李吉成 .

中国专利 :CN100374527C ,2006-04-12

[4]

可溶性金属氧化物羧酸盐的旋涂组合物及其使用方法 [P].

M·D·拉赫曼 ;

V·G·R·查达 ;

姚晖蓉 ;

C·安亚蒂格伍 ;

D·麦克肯兹 .

中国专利 :CN105209973B ,2015-12-30

[5]

官能化金属和氮化物CMP浆料 [P].

郭毅 ;

A·W·马丁 .

美国专利 :CN120290100A ,2025-07-11

[6]

金属氧化物微粒分散浆料 [P].

山内健司 ;

麻生隆浩 ;

森口慎太郎 ;

宫崎宽子 ;

杉田大平 ;

平池宏至 ;

近藤峻右 ;

福井弘司 ;

森田健晴 .

中国专利 :CN102209756A ,2011-10-05

[7]

金属氧化物微粒分散浆料 [P].

山内健司 ;

麻生隆浩 ;

森口慎太郎 ;

宫崎宽子 ;

杉田大平 ;

平池宏至 ;

近藤峻右 ;

福井弘司 ;

森田健晴 .

中国专利 :CN106243596B ,2019-04-19

[8]

双阴离子共插层的层状金属氢氧化物、氧化物及制备方法、应用 [P].

黄富强 ;

杨安洲 .

中国专利 :CN118458811A ,2024-08-09

[9]

用于氧化物CMP的组合物 [P].

高坦·S·格罗弗 ;

布赖恩·L·米勒 .

中国专利 :CN1248994A ,2000-03-29

[10]

包含硅烷改性金属氧化物的组合物 [P].

J.A.贝尔蒙特 .

中国专利 :CN102361940A ,2012-02-22

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