半导体工艺机台

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202421965176.6
申请日
2024-08-13
公开(公告)号
CN223092848U
公开(公告)日
2025-07-11
发明(设计)人
马超
申请人
上海积塔半导体有限公司
申请人地址
201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区云水路600号
IPC主分类号
H01L21/68
IPC分类号
G03F7/20 G03F9/00 H01L21/67
代理机构
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294
代理人
赵娟娟
法律状态
授权
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
半导体工艺机台及半导体工艺设备 [P]. 
刘晓亮 ;
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王伟 .
中国专利 :CN222462836U ,2025-02-11
[2]
半导体工艺机台校准装置及其校准方法以及半导体工艺机台 [P]. 
段珏江 ;
拉海忠 ;
闫晓晖 .
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[3]
用于半导体工艺的机台 [P]. 
金大根 ;
金钟京 ;
朴徹贤 ;
金仁镐 .
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[4]
阀门装置及半导体工艺机台 [P]. 
刘得卫 ;
陆锡坚 ;
杨健 .
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[5]
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[6]
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牛博超 ;
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[7]
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[8]
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[9]
半导体工艺 [P]. 
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[10]
半导体冷却装置及半导体机台 [P]. 
朱佳源 .
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