一种量子阱结构及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN202211682258.5
申请日
2022-12-26
公开(公告)号
CN115802870B
公开(公告)日
2025-07-08
发明(设计)人
张毅文 孔真真 王桂磊 刘靖雄 任宇辉 吴振华
申请人
中国科学院微电子研究所 合肥国家实验室
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号中国科学院微电子研究所
IPC主分类号
H10N52/80
IPC分类号
H10N52/00 H10N52/01 H10N60/80 H10N60/10 H10N60/01
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
高雪
法律状态
授权
国省代码
北京市
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共 50 条
[1]
一种多量子阱结构及其制造方法 [P]. 
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潘尧波 ;
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量子阱结构的制造方法 [P]. 
秋田胜史 ;
住友隆道 ;
盐谷阳平 ;
京野孝史 ;
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[3]
一种量子阱、多量子阱外延结构及其制备方法 [P]. 
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单智发 ;
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[4]
一种量子阱结构 [P]. 
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赵霞焱 ;
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
半导体量子阱结构及其制备方法 [P]. 
印新达 ;
张振峰 ;
齐林 .
中国专利 :CN118800847A ,2024-10-18