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等离子体增强原子层沉积设备及方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510926911.5
申请日：
2025-07-07
公开(公告)号：
CN120425321A
公开(公告)日：
2025-08-05
发明(设计)人：
张昊 国政 李英万 刘连瑞 姚立柱
申请人：
青岛思锐智能科技股份有限公司
申请人地址：
266000 山东省青岛市自由贸易试验区青岛片区牧马山路11号3#楼
IPC主分类号：
C23C16/455
IPC分类号：
C23C16/50
代理机构：
北京北汇律师事务所 11711
代理人：
宋蕾
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-09-12 授权 授权
2025-08-05 公开 公开
2025-08-22 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20250707
共 50 条
[1]
等离子体增强原子层沉积设备及方法 [P]. 
张昊 ;
国政 ;
李英万 ;
刘连瑞 ;
姚立柱 .
中国专利 :CN120425321B ,2025-09-12
[2]
等离子体增强原子层沉积设备及方法 [P]. 
张昊 ;
国政 ;
李英万 ;
彭奕博 ;
伊明辉 ;
姚立柱 ;
刘连瑞 ;
张丛 .
中国专利 :CN120575157A ,2025-09-02
[3]
等离子体增强原子层沉积设备 [P]. 
朱雨 .
中国专利 :CN119144944B ,2025-08-22
[4]
等离子体增强原子层沉积设备 [P]. 
朱雨 .
中国专利 :CN119144944A ,2024-12-17
[5]
等离子体增强原子层沉积设备 [P]. 
王东君 .
中国专利 :CN203174200U ,2013-09-04
[6]
等离子体增强原子层沉积设备及方法 [P]. 
秦海丰 ;
郑波 ;
史小平 ;
兰云峰 ;
张文强 ;
王昊 ;
任晓艳 .
中国专利 :CN113106422A ,2021-07-13
[7]
等离子体增强原子层沉积(PEALD)设备 [P]. 
J·帕茨谢德尔 ;
H·罗尔曼 ;
J·维查尔特 ;
F·布里特 .
中国专利 :CN112771201A ,2021-05-07
[8]
一种等离子体增强原子层沉积设备及沉积方法 [P]. 
董红 ;
刘澳 ;
胡倩 .
中国专利 :CN115595561A ,2023-01-13
[9]
等离子体增强原子层沉积系统和方法 [P]. 
松田司 .
中国专利 :CN101147248A ,2008-03-19
[10]
一种等离子体增强原子层沉积设备 [P]. 
陈灿强 ;
曹勇 ;
郭宏辉 ;
杨智 ;
王岳凡 ;
海旭 .
中国专利 :CN223316781U ,2025-09-09
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