包括具有高介电常数栅极介电层的字元线结构的存储器元件及其制造方法

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专利类型
发明
申请号
CN202410434409.8
申请日
2024-04-11
公开(公告)号
CN120343905A
公开(公告)日
2025-07-18
发明(设计)人
庄英政
申请人
南亚科技股份有限公司
申请人地址
中国台湾新北市
IPC主分类号
H10B12/00
IPC分类号
代理机构
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
李南山
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
包括具有高介电常数栅极介电层的字元线结构的存储器元件及其制造方法 [P]. 
庄英政 .
中国专利 :CN120343910A ,2025-07-18
[2]
高介电常数介电层和/或金属栅极元件的制造方法 [P]. 
李达元 ;
许光源 ;
于雄飞 ;
李威养 ;
叶明熙 .
中国专利 :CN102103994A ,2011-06-22
[3]
具有高介电常数介电层的栅极结构 [P]. 
邱显光 ;
彭宝庆 ;
陶宏远 .
中国专利 :CN2713646Y ,2005-07-27
[4]
具有高介电常数介电层的栅极结构及其制作方法 [P]. 
邱显光 ;
彭宝庆 ;
陶宏远 .
中国专利 :CN1577748A ,2005-02-09
[5]
包括具有较低和较高栅极电极层的字元线结构的存储器元件及其制备方法 [P]. 
庄英政 .
中国专利 :CN120916426A ,2025-11-07
[6]
包括具有较低和较高栅极电极层的字元线结构的存储器元件及其制备方法 [P]. 
庄英政 .
中国专利 :CN120916430A ,2025-11-07
[7]
具有高介电常数栅极介电层的半导体组件及其制造方法 [P]. 
王志豪 ;
胡正明 .
中国专利 :CN100369263C ,2005-07-13
[8]
包括具有高K栅极介电层的凹入式栅极结构的存储器元件及其制备方法 [P]. 
庄英政 .
中国专利 :CN120614816A ,2025-09-09
[9]
包括具有高K栅极介电层的凹入式栅极结构的存储器元件及其制备方法 [P]. 
庄英政 .
中国专利 :CN120614809A ,2025-09-09
[10]
具有高介电常数栅极介电层的半导体组件 [P]. 
王志豪 ;
胡正明 .
中国专利 :CN2743980Y ,2005-11-30