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包括具有高介电常数栅极介电层的字元线结构的存储器元件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410434409.8
申请日
:
2024-04-11
公开(公告)号
:
CN120343905A
公开(公告)日
:
2025-07-18
发明(设计)人
:
庄英政
申请人
:
南亚科技股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新北市
IPC主分类号
:
H10B12/00
IPC分类号
:
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
李南山
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-08-05
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10B 12/00申请日:20240411
2025-07-18
公开
公开
共 50 条
[1]
包括具有高介电常数栅极介电层的字元线结构的存储器元件及其制造方法
[P].
庄英政
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
庄英政
.
中国专利
:CN120343910A
,2025-07-18
[2]
高介电常数介电层和/或金属栅极元件的制造方法
[P].
李达元
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李达元
;
许光源
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
许光源
;
于雄飞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
于雄飞
;
李威养
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李威养
;
叶明熙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
叶明熙
.
中国专利
:CN102103994A
,2011-06-22
[3]
具有高介电常数介电层的栅极结构
[P].
邱显光
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
邱显光
;
彭宝庆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
彭宝庆
;
陶宏远
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陶宏远
.
中国专利
:CN2713646Y
,2005-07-27
[4]
具有高介电常数介电层的栅极结构及其制作方法
[P].
邱显光
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
邱显光
;
彭宝庆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
彭宝庆
;
陶宏远
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陶宏远
.
中国专利
:CN1577748A
,2005-02-09
[5]
包括具有较低和较高栅极电极层的字元线结构的存储器元件及其制备方法
[P].
庄英政
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
庄英政
.
中国专利
:CN120916426A
,2025-11-07
[6]
包括具有较低和较高栅极电极层的字元线结构的存储器元件及其制备方法
[P].
庄英政
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
庄英政
.
中国专利
:CN120916430A
,2025-11-07
[7]
具有高介电常数栅极介电层的半导体组件及其制造方法
[P].
王志豪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王志豪
;
胡正明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
胡正明
.
中国专利
:CN100369263C
,2005-07-13
[8]
包括具有高K栅极介电层的凹入式栅极结构的存储器元件及其制备方法
[P].
庄英政
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
庄英政
.
中国专利
:CN120614816A
,2025-09-09
[9]
包括具有高K栅极介电层的凹入式栅极结构的存储器元件及其制备方法
[P].
庄英政
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
庄英政
.
中国专利
:CN120614809A
,2025-09-09
[10]
具有高介电常数栅极介电层的半导体组件
[P].
王志豪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王志豪
;
胡正明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
胡正明
.
中国专利
:CN2743980Y
,2005-11-30
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