学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
经由旋涂组装的液晶SAM及其区域选择性沉积特性
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380087274.6
申请日
:
2023-11-09
公开(公告)号
:
CN120380845A
公开(公告)日
:
2025-07-25
发明(设计)人
:
C·维特泽尔
N·布劳因
R·弗尔特
S·波巴德
D·巴斯卡兰
申请人
:
默克专利股份有限公司
申请人地址
:
德国
IPC主分类号
:
H05K3/12
IPC分类号
:
H10K71/12
C09K19/04
C09K19/12
C09K19/30
C09K19/14
代理机构
:
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人
:
陈晰
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-25
公开
公开
2025-11-21
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H05K 3/12申请日:20231109
共 50 条
[1]
改进的区域选择性沉积
[P].
S·M·吉尔莫特瓦克
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ASMIP私人控股有限公司
ASMIP私人控股有限公司
S·M·吉尔莫特瓦克
;
K·卡谢尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ASMIP私人控股有限公司
ASMIP私人控股有限公司
K·卡谢尔
.
:CN120184089A
,2025-06-20
[2]
用于控制旋涂自组装单层(SAM)选择性的方法
[P].
利奥尔·胡利
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
利奥尔·胡利
;
内森·安东诺维奇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
内森·安东诺维奇
;
迪纳·特约索
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
迪纳·特约索
.
日本专利
:CN121002629A
,2025-11-21
[3]
经由旋涂法用于DSA的选择性自组装单层
[P].
S·波巴德
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
S·波巴德
;
D·巴斯卡兰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
D·巴斯卡兰
.
德国专利
:CN117957209A
,2024-04-30
[4]
区域选择性沉积
[P].
J·黄
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ASMIP私人控股有限公司
ASMIP私人控股有限公司
J·黄
;
K·K·卡谢尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ASMIP私人控股有限公司
ASMIP私人控股有限公司
K·K·卡谢尔
.
:CN120866812A
,2025-10-31
[5]
混合氧化物介电膜的固有区域选择性沉积
[P].
C·M·布里克
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
盖列斯特有限公司
盖列斯特有限公司
C·M·布里克
.
美国专利
:CN119054046A
,2024-11-29
[6]
掩模材料的区域选择性沉积
[P].
曾文德
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
曾文德
;
E·阿尔塔米拉诺桑切兹
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
E·阿尔塔米拉诺桑切兹
.
中国专利
:CN110504162B
,2019-11-26
[7]
利用醇选择性还原和保护的选择性沉积
[P].
刘风全
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘风全
;
马伯方
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
马伯方
;
艾华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
艾华
;
吕疆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
吕疆
;
张镁
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张镁
;
戴维·汤普森
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
戴维·汤普森
.
中国专利
:CN106663614B
,2017-05-10
[8]
一种区域选择性沉积的方法
[P].
于严淏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
于严淏
;
李春
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李春
.
中国专利
:CN115386854A
,2022-11-25
[9]
一种区域选择性沉积的方法
[P].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
于严淏
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
李春
.
中国专利
:CN115386854B
,2024-01-16
[10]
使用水解的选择性沉积
[P].
丹尼斯·豪斯曼
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
朗姆研究公司
朗姆研究公司
丹尼斯·豪斯曼
;
保罗·莱曼利
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
朗姆研究公司
朗姆研究公司
保罗·莱曼利
.
美国专利
:CN112005343B
,2025-05-06
←
1
2
3
4
5
→