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一种晶圆边缘曝光系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510609657.6
申请日
:
2025-05-13
公开(公告)号
:
CN120406054A
公开(公告)日
:
2025-08-01
发明(设计)人
:
王永洁
王翰阳
孙元斌
韩禹
徐庆阳
申请人
:
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请人地址
:
110180 辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号
IPC主分类号
:
G03F7/20
IPC分类号
:
代理机构
:
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
:
黄海霞
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
辽宁省 沈阳市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-08-19
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20250513
2025-08-01
公开
公开
共 50 条
[1]
晶圆边缘曝光系统及方法
[P].
崔栽荣
论文数:
0
引用数:
0
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0
崔栽荣
;
贺晓彬
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0
贺晓彬
;
杨涛
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0
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杨涛
;
刘金彪
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0
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刘金彪
;
李亭亭
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0
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0
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李亭亭
.
中国专利
:CN114355731A
,2022-04-15
[2]
晶圆边缘曝光系统及方法
[P].
崔栽荣
论文数:
0
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0
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
崔栽荣
;
贺晓彬
论文数:
0
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
贺晓彬
;
杨涛
论文数:
0
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0
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
杨涛
;
刘金彪
论文数:
0
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0
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
刘金彪
;
李亭亭
论文数:
0
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0
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0
机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
李亭亭
.
中国专利
:CN114355731B
,2024-07-02
[3]
用于晶圆边缘的光罩与曝光系统
[P].
彭荣赐
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引用数:
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
彭荣赐
.
中国专利
:CN121050170A
,2025-12-02
[4]
一种晶圆边缘抛光系统
[P].
路新春
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
路新春
;
郭垒
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
郭垒
;
邢浩鑫
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
邢浩鑫
;
杨洪建
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
杨洪建
.
中国专利
:CN120095665A
,2025-06-06
[5]
一种边缘曝光系统
[P].
高攀
论文数:
0
引用数:
0
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0
高攀
.
中国专利
:CN208888579U
,2019-05-21
[6]
一种边缘曝光系统和边缘曝光方法
[P].
李煜芝
论文数:
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李煜芝
.
中国专利
:CN104950582B
,2015-09-30
[7]
晶圆曝光系统及其补偿方法
[P].
李海峰
论文数:
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
李海峰
;
张祥平
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
张祥平
;
赵志豪
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0
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
赵志豪
.
中国专利
:CN121115428A
,2025-12-12
[8]
一种晶圆片曝光系统及方法
[P].
田锋
论文数:
0
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0
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机构:
物元半导体技术(青岛)有限公司
物元半导体技术(青岛)有限公司
田锋
;
邱杰振
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机构:
物元半导体技术(青岛)有限公司
物元半导体技术(青岛)有限公司
邱杰振
.
中国专利
:CN117572719A
,2024-02-20
[9]
晶圆边缘曝光方法、晶圆边缘曝光装置及掩膜板
[P].
陈琦南
论文数:
0
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0
陈琦南
.
中国专利
:CN113433799B
,2021-09-24
[10]
调节装置、晶圆曝光设备及晶圆边缘曝光方法
[P].
温建胜
论文数:
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0
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温建胜
.
中国专利
:CN112835264A
,2021-05-25
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