一种晶圆边缘曝光系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202510609657.6
申请日
2025-05-13
公开(公告)号
CN120406054A
公开(公告)日
2025-08-01
发明(设计)人
王永洁 王翰阳 孙元斌 韩禹 徐庆阳
申请人
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请人地址
110180 辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号
IPC主分类号
G03F7/20
IPC分类号
代理机构
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
黄海霞
法律状态
实质审查的生效
国省代码
辽宁省 沈阳市
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共 50 条
[1]
晶圆边缘曝光系统及方法 [P]. 
崔栽荣 ;
贺晓彬 ;
杨涛 ;
刘金彪 ;
李亭亭 .
中国专利 :CN114355731A ,2022-04-15
[2]
晶圆边缘曝光系统及方法 [P]. 
崔栽荣 ;
贺晓彬 ;
杨涛 ;
刘金彪 ;
李亭亭 .
中国专利 :CN114355731B ,2024-07-02
[3]
用于晶圆边缘的光罩与曝光系统 [P]. 
彭荣赐 .
中国专利 :CN121050170A ,2025-12-02
[4]
一种晶圆边缘抛光系统 [P]. 
路新春 ;
郭垒 ;
邢浩鑫 ;
杨洪建 .
中国专利 :CN120095665A ,2025-06-06
[5]
一种边缘曝光系统 [P]. 
高攀 .
中国专利 :CN208888579U ,2019-05-21
[6]
一种边缘曝光系统和边缘曝光方法 [P]. 
李煜芝 .
中国专利 :CN104950582B ,2015-09-30
[7]
晶圆曝光系统及其补偿方法 [P]. 
李海峰 ;
张祥平 ;
赵志豪 .
中国专利 :CN121115428A ,2025-12-12
[8]
一种晶圆片曝光系统及方法 [P]. 
田锋 ;
邱杰振 .
中国专利 :CN117572719A ,2024-02-20
[9]
晶圆边缘曝光方法、晶圆边缘曝光装置及掩膜板 [P]. 
陈琦南 .
中国专利 :CN113433799B ,2021-09-24
[10]
调节装置、晶圆曝光设备及晶圆边缘曝光方法 [P]. 
温建胜 .
中国专利 :CN112835264A ,2021-05-25