一种边缘曝光系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201821404358.0

申请日：

2018-08-29

公开(公告)号：

CN208888579U

公开(公告)日：

2019-05-21

发明(设计)人：

高攀

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238

代理人：

潘中毅;熊贤卿

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-05-21	授权	授权
2021-01-05	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):G03F 7/20 变更事项:专利权人变更前:深圳市华星光电技术有限公司变更后:TCL华星光电技术有限公司变更事项:地址变更前:518000 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号变更后:518000 广东省深圳市光明新区塘明大道9-2号

共 50 条

[1]

一种边缘曝光系统和边缘曝光方法 [P].

李煜芝 .

中国专利 :CN104950582B ,2015-09-30

[2]

一种双面曝光系统 [P].

刘凌益 .

中国专利 :CN218213783U ,2023-01-03

[3]

散射曝光系统 [P].

叶茂贤 .

中国专利 :CN202049331U ,2011-11-23

[4]

一种晶圆边缘曝光系统 [P].

王永洁 ;

王翰阳 ;

孙元斌 ;

韩禹 ;

徐庆阳 .

中国专利 :CN120406054A ,2025-08-01

[5]

一种边缘曝光系统及方法 [P].

张立 ;

王向东 .

中国专利 :CN118295218A ,2024-07-05

[6]

分光曝光系统 [P].

郭党委 ;

胡雅文 ;

吴明仓 .

中国专利 :CN214067574U ,2021-08-27

[7]

一种曝光系统 [P].

杨兵 ;

吴良文 ;

周本洋 .

中国专利 :CN214651920U ,2021-11-09

[8]

一种曝光系统 [P].

李国权 ;

赖军威 ;

高大伟 .

中国专利 :CN213092100U ,2021-04-30

[9]

光刻投影物镜、边缘曝光系统和边缘曝光装置 [P].

程习敏 ;

田翠侠 ;

蓝科 .

中国专利 :CN109856915B ,2019-06-07

[10]

一种曝光机及曝光系统 [P].

王德帅 ;

郭建 ;

沈奇雨 .

中国专利 :CN202372754U ,2012-08-08

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