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一种边缘曝光系统及方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202410557256.6
申请日：
2024-05-07
公开(公告)号：
CN118295218A
公开(公告)日：
2024-07-05
发明(设计)人：
张立
王向东
申请人：
合肥开悦半导体科技有限公司
申请人地址：
230000 安徽省合肥市经济技术开发区合肥空港经济示范区天柱山大道西、硕放路南电子厂房研发楼4楼
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
合肥律众知识产权代理有限公司 34147
代理人：
赵娟
法律状态：
公开
国省代码：
安徽省
宣城市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-07-05 | 公开 | 公开 |
| 2024-07-23 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20240507 |