一种三维微纳结构的偏振干涉光刻方法及系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510668509.1

申请日：

2025-05-23

公开(公告)号：

CN120178618B

公开(公告)日：

2025-08-01

发明(设计)人：

叶燕许宜申

申请人：

苏州大学

申请人地址：

215137 江苏省苏州市相城区济学路8号

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/00

代理机构：

苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257

代理人：

原珏照

法律状态：

公开

国省代码：

黑龙江省哈尔滨市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-20	公开	公开
2025-08-01	授权	授权
2025-07-08	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20250523

共 50 条

[1]

一种三维微纳结构的偏振干涉光刻方法及系统 [P].

叶燕 ;

许宜申 .

中国专利 :CN120178618A ,2025-06-20

[2]

三维微纳结构光刻系统及其方法 [P].

邵仁锦 ;

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

张瑾 ;

朱鸣 ;

徐顺达 ;

吕帅 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112799286B ,2021-05-14

[3]

三维微纳结构光刻系统及其方法 [P].

邵仁锦 ;

浦东林 ;

朱鹏飞 ;

张瑾 ;

朱鸣 ;

陈林森 .

中国专利 :CN112799285B ,2021-05-14

[4]

一种用于偏振干涉光刻的光路结构及偏振干涉光刻系统 [P].

浦东林 ;

陈林森 ;

黄文彬 ;

朱鸣 ;

乔文 ;

朱鹏飞 ;

邵仁锦 ;

张瑾 ;

陆延青 ;

徐挺 ;

张伟华 ;

胡伟 .

中国专利 :CN117666292A ,2024-03-08

[5]

一种可转移的三维微纳结构的制备方法 [P].

王英 ;

刘韦卓 ;

何斌 ;

陆熠磊 .

中国专利 :CN118754053A ,2024-10-11

[6]

一种多层三维微纳结构湿法刻蚀加工方法 [P].

陈桪 ;

王浩亚 ;

龙杰才 ;

舒炜明 ;

张轩 ;

张皓钧 .

中国专利 :CN121091405A ,2025-12-09

[7]

一种三维微纳结构的各向同性收缩方法及应用 [P].

熊伟 ;

胡化策 ;

高辉 ;

张铭铎 ;

薛松岩 ;

邓磊敏 .

中国专利 :CN118561530B ,2025-02-07

[8]

一种三维微纳结构的各向同性收缩方法及应用 [P].

熊伟 ;

胡化策 ;

高辉 ;

张铭铎 ;

薛松岩 ;

邓磊敏 .

中国专利 :CN118561530A ,2024-08-30

[9]

一种三维微纳结构器件的制备装置及方法 [P].

任山 ;

孟嘉欣 ;

洪澜 ;

孟跃中 ;

肖敏 ;

王拴紧 ;

韩冬梅 .

中国专利 :CN106801248A ,2017-06-06

[10]

一种自组装三维微纳结构的制备方法 [P].

梁飞燕 ;

童欣 ;

王九鑫 ;

何智恒 ;

耿可佳 ;

赵毅婕 .

中国专利 :CN111694219A ,2020-09-22

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