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同時に複数のRF発生器を較正するためのシステムおよび方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240575059
申请日
:
2023-06-23
公开(公告)号
:
JP2025525374A
公开(公告)日
:
2025-08-05
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05H1/46
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
RF電力損失を補償するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022536516A
,2022-08-17
[2]
RF電力損失を補償するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
MATHEW DENNIS EVANS
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LAM RES CORP
LAM RES CORP
MATHEW DENNIS EVANS
;
CRISTOFER ADDISON FLOWERS
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LAM RES CORP
LAM RES CORP
CRISTOFER ADDISON FLOWERS
;
JOHN DREWERY
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LAM RES CORP
LAM RES CORP
JOHN DREWERY
.
日本专利
:JP2025032156A
,2025-03-11
[3]
中心周波数同調のためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025508379A
,2025-03-26
[4]
軟部組織を切除するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018510677A
,2018-04-19
[5]
基板を処理するための周波数同調と整合同調とを重複させずに適用するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021503167A
,2021-02-04
[6]
基板を処理するための周波数同調と整合同調とを重複させずに適用するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023040191A
,2023-03-22
[7]
発作の特徴付けのためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019515732A
,2019-06-13
[8]
複数の状態で反射電力を低減するようにチューニングするためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020510959A
,2020-04-09
[9]
画像解像度を決定するためのシステムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017516415A
,2017-06-15
[10]
刺激治療のための装置、システム、および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023018156A
,2023-02-07
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