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提升光刻工艺窗口的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510763409.7
申请日
:
2025-06-09
公开(公告)号
:
CN120491397A
公开(公告)日
:
2025-08-15
发明(设计)人
:
孙珊珊
王岳
周红宇
李海涛
申请人
:
安徽晶微科技有限公司
申请人地址
:
239000 安徽省滁州市琅琊区琅琊经济开发区六安路40号
IPC主分类号
:
G03F7/20
IPC分类号
:
代理机构
:
北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387
代理人
:
张向琨
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-02
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20250609
2025-08-15
公开
公开
共 50 条
[1]
确定光刻工艺窗口的方法
[P].
高松
论文数:
0
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0
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0
高松
;
张聪
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张聪
;
胡丹丹
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0
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胡丹丹
.
中国专利
:CN110632827A
,2019-12-31
[2]
优化光刻工艺窗口的方法
[P].
段成明
论文数:
0
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0
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0
段成明
.
中国专利
:CN114035408A
,2022-02-11
[3]
确定光刻工艺窗口的方法
[P].
毛智彪
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0
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毛智彪
;
王剑
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王剑
;
戴韫青
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戴韫青
.
中国专利
:CN102436149A
,2012-05-02
[4]
光刻工艺窗口确定方法
[P].
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机构:
周国栋
;
陈甫讯
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
陈甫讯
;
陈泽阳
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
陈泽阳
;
论文数:
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机构:
高大为
.
中国专利
:CN120595541A
,2025-09-05
[5]
优化芯片光刻工艺窗口的方法
[P].
夏明
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
夏明
.
中国专利
:CN121115425A
,2025-12-12
[6]
光刻工艺窗口模拟的方法和系统
[P].
叶军
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叶军
;
曹宇
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曹宇
;
冯函英
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冯函英
.
中国专利
:CN101452221A
,2009-06-10
[7]
基于光刻工艺窗口的hotspot发现方法
[P].
任谦
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
任谦
;
王昳
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
王昳
;
赵伟
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
赵伟
;
修磊
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
修磊
;
陈强
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
陈强
;
方大千
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
方大千
;
潘继宏
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
潘继宏
.
中国专利
:CN121189266A
,2025-12-23
[8]
光刻工艺窗口的检测方法及装置
[P].
燕燕
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燕燕
;
时雪龙
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时雪龙
;
夏铭阳
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夏铭阳
;
周涛
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周涛
.
中国专利
:CN114627095A
,2022-06-14
[9]
光刻工艺窗口的检测方法及装置
[P].
燕燕
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
燕燕
;
时雪龙
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
时雪龙
;
夏铭阳
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
夏铭阳
;
周涛
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
周涛
.
中国专利
:CN114627095B
,2025-10-03
[10]
一种绘制光刻工艺窗口的方法
[P].
董立松
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董立松
;
韦亚一
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韦亚一
.
中国专利
:CN115437225A
,2022-12-06
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