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光刻工艺窗口的检测方法及装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202210301347.4
申请日
:
2022-03-25
公开(公告)号
:
CN114627095B
公开(公告)日
:
2025-10-03
发明(设计)人
:
燕燕
时雪龙
夏铭阳
周涛
申请人
:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路研发中心有限公司
申请人地址
:
201800 上海市嘉定区叶城路1288号6幢JT2216室
IPC主分类号
:
G06T7/00
IPC分类号
:
G06T7/13
G06N3/0464
G06N3/08
代理机构
:
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
:
黄海霞
法律状态
:
授权
国省代码
:
上海市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-03
授权
授权
共 50 条
[1]
光刻工艺窗口的检测方法及装置
[P].
燕燕
论文数:
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燕燕
;
时雪龙
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时雪龙
;
夏铭阳
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夏铭阳
;
周涛
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周涛
.
中国专利
:CN114627095A
,2022-06-14
[2]
确定光刻工艺窗口的方法
[P].
高松
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0
高松
;
张聪
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张聪
;
胡丹丹
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胡丹丹
.
中国专利
:CN110632827A
,2019-12-31
[3]
一种基于对比学习的光刻工艺窗口检测方法
[P].
沈季玮
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机构:
华东师范大学
华东师范大学
沈季玮
;
陆虎
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机构:
华东师范大学
华东师范大学
陆虎
;
论文数:
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机构:
吕岳
;
论文数:
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机构:
吕淑静
.
中国专利
:CN116482943B
,2025-10-24
[4]
基于光刻工艺窗口的hotspot发现方法
[P].
任谦
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
任谦
;
王昳
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
王昳
;
赵伟
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
赵伟
;
修磊
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
修磊
;
陈强
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
陈强
;
方大千
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
方大千
;
潘继宏
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机构:
上海芯无双仿真科技有限公司
上海芯无双仿真科技有限公司
潘继宏
.
中国专利
:CN121189266A
,2025-12-23
[5]
提升光刻工艺窗口的方法
[P].
孙珊珊
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机构:
安徽晶微科技有限公司
安徽晶微科技有限公司
孙珊珊
;
王岳
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机构:
安徽晶微科技有限公司
安徽晶微科技有限公司
王岳
;
周红宇
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机构:
安徽晶微科技有限公司
安徽晶微科技有限公司
周红宇
;
李海涛
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机构:
安徽晶微科技有限公司
安徽晶微科技有限公司
李海涛
.
中国专利
:CN120491397A
,2025-08-15
[6]
优化光刻工艺窗口的方法
[P].
段成明
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0
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段成明
.
中国专利
:CN114035408A
,2022-02-11
[7]
确定光刻工艺窗口的方法
[P].
毛智彪
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毛智彪
;
王剑
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王剑
;
戴韫青
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0
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戴韫青
.
中国专利
:CN102436149A
,2012-05-02
[8]
光刻工艺窗口确定方法
[P].
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引用数:
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机构:
周国栋
;
陈甫讯
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
陈甫讯
;
陈泽阳
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机构:
浙江大学杭州国际科创中心
浙江大学杭州国际科创中心
陈泽阳
;
论文数:
引用数:
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机构:
高大为
.
中国专利
:CN120595541A
,2025-09-05
[9]
优化芯片光刻工艺窗口的方法
[P].
夏明
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
夏明
.
中国专利
:CN121115425A
,2025-12-12
[10]
一种绘制光刻工艺窗口的方法
[P].
董立松
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董立松
;
韦亚一
论文数:
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韦亚一
.
中国专利
:CN115437225A
,2022-12-06
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